[发明专利]旋转磁铁溅镀装置有效

专利信息
申请号: 201080021115.9 申请日: 2010-03-19
公开(公告)号: CN102421932A 公开(公告)日: 2012-04-18
发明(设计)人: 大见忠弘;后藤哲也;松冈孝明 申请(专利权)人: 国立大学法人东北大学;东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王轶;李洋
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题在于提供一种减少因伴随离子体激发电力增大的标的物部等的加热所致的坏的影响的旋转磁铁溅镀装置。本发明的旋转磁铁溅镀装置具有通过使冷却用介质在多个螺旋状板磁铁组之间形成的螺旋状的空间流动、或者在支承标的物部的背板上设置冷却用流路,来对标的物部进行除热的构造。
搜索关键词: 旋转 磁铁 装置
【主权项】:
一种旋转磁铁溅镀装置,是包括载置被处理基板的被处理基板设置台、将标的物以与所述被处理基板对置的方式固定设置的背板、以及相对于标的物的设置部分设置在所述被处理基板设置台的相反侧的磁铁,并且利用该磁铁在标的物表面形成磁场,从而在标的物表面困入等离子体的溅镀装置,其特征在于,所述磁铁包括:在柱状旋转轴设置有多个板磁铁的旋转磁铁组;以及在旋转磁铁组的周边与标的物面平行地设置的固定外周板磁铁或固定外周强磁性体,构成为通过使所述旋转磁铁组与所述柱状旋转轴一起旋转,从而使所述标的物表面的磁场图案随时间移动,在所述旋转磁铁组与背板之间具有供冷却用的介质流动的流路。
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