[发明专利]旋转磁铁溅镀装置

权利要求书

1.一种旋转磁铁溅镀装置，是包括载置被处理基板的被处理基板设置台、将标的物以与所述被处理基板对置的方式固定设置的背板、以及相对于标的物的设置部分设置在所述被处理基板设置台的相反侧的磁铁，并且利用该磁铁在标的物表面形成磁场，从而在标的物表面困入等离子体的溅镀装置，其特征在于，

所述磁铁包括：在柱状旋转轴设置有多个板磁铁的旋转磁铁组；以及在旋转磁铁组的周边与标的物面平行地设置的固定外周板磁铁或固定外周强磁性体，

构成为通过使所述旋转磁铁组与所述柱状旋转轴一起旋转，从而使所述标的物表面的磁场图案随时间移动，

在所述旋转磁铁组与背板之间具有供冷却用的介质流动的流路。

2.根据权利要求1所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述旋转磁铁组为，在所述柱状旋转轴将板磁铁以N极和S极的任一个极朝向柱状旋转轴的径向外侧的方式粘贴成螺旋状，从而形成一个或多个螺旋板磁铁组。

3.根据权利要求1或2所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

在所述柱状旋转轴具备偶数个所述旋转螺旋磁铁组，

在所述柱状旋转轴的轴向上邻接的螺旋彼此为，在所述柱状旋转轴的径向外侧形成相互不同的磁极、即形成N极和S极的螺旋状板磁铁组。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述固定外周板磁铁或所述固定强磁性体在从所述标的物侧来看是具有包围所述旋转磁铁组的构造的磁铁，且在所述标的物侧形成N极和S极的任一方的磁极。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述流路构成为使所述冷却用的介质在多个螺旋板磁铁组之间的空间成螺旋状流动。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

将所述冷却用的介质的雷诺数设定为1000到5000之间而进行流动。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述流路包括由上述螺旋板磁铁组的侧壁、所述柱状旋转轴、以及设置在所述螺旋板磁铁组的外侧的遮蔽板包围的空间，所述冷却用的介质沿着所述螺旋板磁铁组而成螺旋状流动。

8.根据权利要求7所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述遮蔽板的至少一部分为强磁性体。

9.一种溅镀方法，其特征在于，

使用权利要求1～8中任一项所述的旋转磁铁溅镀装置，一边使所述柱状旋转轴旋转，一边在被处理基板进行所述标的物的材料的成膜。

10.一种电子装置的制造方法，其特征在于，

包括使用权利要求9所述的溅镀方法，在被处理基板进行溅镀成膜的工序。

11.一种旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

具有：支承标的物部的背板；设在所述背板的与支承所述标的物部的面相反的一侧的柱状旋转轴；在该柱状旋转轴上相互留出螺旋状的空间地配置的多个螺旋状板磁铁组；以及使冷却介质在所述多个螺旋状板磁铁组之间的螺旋状的空间流动的冷却机构。

12.根据权利要求11所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述冷却机构包括：与所述背板接触地设置的第一遮蔽板；与所述第一遮蔽板连结、且以包围所述多个螺旋状板磁铁组的方式设置的第二遮蔽板。

13.根据权利要求12所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述第一遮蔽板由非磁性体形成，而第二遮蔽板由磁性体形成。

14.根据权利要求13所述的旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

所述第一遮蔽板的非磁性体是铜，第二遮蔽板的磁性体是铁。

15.一种旋转磁铁溅镀装置，其特征在于，

具备：支承标的物部的背板；设在所述背板的与支承所述标的物部的面相反的一侧的柱状旋转轴；以及在该柱状旋转轴上相互留出螺旋状的空间地配置的多个螺旋状板磁铁组，

从所述背板的所述标的物来看，在该背板与所述标的物重合的部分设置有冷却用流路。

16.一种旋转磁铁溅镀装置的冷却方法，是在柱状旋转轴上具备相互留出螺旋状的空间地配置的多个螺旋状板磁铁组的旋转磁铁溅镀装置的冷却方法，其特征在于，

以包围所述多个螺旋状板磁铁组之间的螺旋状的空间的方式，形成冷却介质用流路，且通过使冷却介质流动于该冷却介质用流路而进行冷却。