[发明专利]记录装置的校准有效
申请号: | 201080020933.7 | 申请日: | 2010-04-22 |
公开(公告)号: | CN102439962A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | A·瓦尔内斯 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | H04N1/047 | 分类号: | H04N1/047;H04N1/06;B41J2/00;B41J29/393 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 张懿;王忠忠 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及用于改变记录装置(10)的校准以调节几何畸变的方法,所述方法包括:提供用于承载记录介质(17)的介质支架(12);操作包括多个单独可寻址的记录通道(23)的记录头(16)以在所述记录介质以第一取向(50A)被定位在所述介质支架上的同时在所述记录介质上形成第一图像特征(60);操作记录头以在所述记录介质以第二取向(50B)被定位在所述介质支架上的同时在所述记录介质上形成第二图像特征(62),所述第二取向不同于所述第一取向;检测所述第一图像特征与所述第二图像特征之间的所预期的间隔的变化;以及依照被检测到的变化进行成像纠正。 | ||
搜索关键词: | 记录 装置 校准 | ||
【主权项】:
一种用于改变记录装置的校准以调节几何畸变的方法,所述方法包括:提供用于承载记录介质的介质支架;操作包括多个单独可寻址的记录通道的记录头以在所述记录介质以第一取向被定位在所述介质支架上的同时在所述记录介质上形成第一图像特征;操作所述记录头以在所述记录介质以第二取向被定位在所述介质支架上的同时在所述记录介质上形成第二图像特征,所述第二取向不同于所述第一取向;检测所述第一图像特征与所述第二图像特征之间的所预期的间隔的变化;以及依照被检测到的变化进行成像纠正。
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