[发明专利]记录装置的校准有效

专利信息
申请号: 201080020933.7 申请日: 2010-04-22
公开(公告)号: CN102439962A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: A·瓦尔内斯 申请(专利权)人: 伊斯曼柯达公司
主分类号: H04N1/047 分类号: H04N1/047;H04N1/06;B41J2/00;B41J29/393
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张懿;王忠忠
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 记录 装置 校准
【权利要求书】:

1.一种用于改变记录装置的校准以调节几何畸变的方法,所述方法包括:

提供用于承载记录介质的介质支架;

操作包括多个单独可寻址的记录通道的记录头以在所述记录介质以第一取向被定位在所述介质支架上的同时在所述记录介质上形成第一图像特征;

操作所述记录头以在所述记录介质以第二取向被定位在所述介质支架上的同时在所述记录介质上形成第二图像特征,所述第二取向不同于所述第一取向;

检测所述第一图像特征与所述第二图像特征之间的所预期的间隔的变化;以及

依照被检测到的变化进行成像纠正。

2.如权利要求1所述的方法,其中进行所述成像纠正包括依照被检测到的变化调节所述记录通道中的一部分的激活时机。

3.如权利要求1所述的方法,其中进行所述成像纠正包括依照被检测到的变化调节滑架的移动,所述滑架适于沿路径移动所述记录头。

4.如权利要求3所述的方法,其中调节所述滑架的移动包括调节所述滑架的速度。

5.如权利要求1所述的方法,其包括在所述记录介质被定位在所述介质支架上的同时检测所述变化。

6.如权利要求1所述的方法,其包括在所述记录介质以所述第一取向和所述第二取向中的一个被定位在所述介质支架上的同时检测所述变化。

7.如权利要求1所述的方法,其中所述介质支架包括配准特征,并且所述方法包括在所述记录介质以所述第一取向被定位在所述介质支架上的同时将所述记录介质的第一边缘定位在所述配准特征附近,而在所述记录介质以所述第二取向被定位在所述介质支架上的同时将所述记录介质的第二边缘定位在所述配准特征附近,其中所述第一边缘不同于所述第二边缘。

8.如权利要求7所述的方法,其中所述第二边缘与所述第一边缘横向对齐。

9.如权利要求1所述的方法,其包括在将所述第一图像特征形成在所述记录介质上的同时建立所述记录头与所述介质支架之间沿第一方向的相对移动,并且在将所述第二图像特征形成在所述记录介质上的同时建立所述记录头与所述介质支架之间沿第二方向的相对移动,其中所述第二方向不同于所述第一方向。

10.如权利要求1所述的方法,其中所述记录介质在所述介质支架上的第二取向表示所述记录介质相对于所述记录介质在所述介质支架上的第一取向的旋转。

11.如权利要求1所述的方法,其中所述记录介质在所述介质支架上的第二取向对应于所述记录介质在所述介质支架上的第一取向的改变,通过使所述记录介质绕大体上垂直于所述记录介质的由所述介质支架所支撑的表面的轴旋转一旋转角而产生所述改变。

12.如权利要求11所述的方法,其中所述旋转角在85度到95度的范围内。

13.如权利要求1所述的方法,其包括确定所述记录介质的边缘上的两个以定距离间隔的点的位置,以及将所述第一图像特征和所述第二图像特征中的每一个形成为与所确定的所述以定距离间隔的点的位置对齐。

14.如权利要求1所述的方法,其包括在以所述第一取向对所述记录介质在所述介质支架上的定位与以所述第二取向对所述记录介质在所述介质支架上的定位之间将所述记录介质与所述介质支架完全分开。

15.如权利要求5所述的方法,其包括在检测所述变化之前调节所述记录介质的成像部分与所述记录介质的未成像部分之间的对比度。

16.如权利要求1所述的方法,其包括提供传感器以用于检测所述变化。

17.如权利要求5所述的方法,其包括提供传感器以用于检测所述变化。

18.如权利要求17所述的方法,其中所述传感器包括图像捕获设备。

19.如权利要求18所述的方法,其包括提供适于沿路径移动所述传感器的滑架。

20.如权利要求19所述的方法,其中所述滑架适于沿所述路径移动所述记录头。

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