[发明专利]用于投射曝光系统的具有至少一个磁体的致动器、致动器的制造方法、以及具有磁体的投射曝光系统有效
| 申请号： | 201080015703.1 | 申请日： | 2010-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN102388343A | 公开（公告）日： | 2012-03-21 |
| 发明（设计）人： | 阿明.沃伯;诺伯特.穆埃尔伯格;阿尔穆特.恰普;于尔根.费希尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08;H01F7/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及包括至少一个磁体(22)的用于投射曝光系统的致动器，其中所述磁体被包封并且/或者被支撑在磁体支撑板(12)中，所述磁体支撑板(12)通过微技术制造方法制造，从而在没有附加连接材料的情况下，利用单体或接合连接将移动操纵器表面(23)保持在磁体支撑板中，使得具有安全的连接。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 投射 曝光 系统 具有 至少 一个 磁体 致动器 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
用于微光刻的投射曝光系统，具有至少一个磁体或至少一个致动器，所述致动器包括至少一个磁体(1、22)，其特征在于：所述至少一个磁体被完全包封。
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