[发明专利]光扩散元件的制造方法、光扩散元件、与带光扩散元件的偏振板及液晶显示装置的制造方法有效
| 申请号： | 201080012533.1 | 申请日： | 2010-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN102356335A | 公开（公告）日： | 2012-02-15 |
| 发明（设计）人： | 渊田岳仁;武本博之;首藤俊介;宫武稔 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张宝荣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光扩散元件的制造方法，其可低成本且高生产率地制造雾度值高、具有强扩散性且抑制反向散射的光扩散元件。本发明的光扩散元件的制造方法包括如下工序：使含有树脂成分的前体及超微粒成分的基质形成材料与光扩散性微粒相接触的工序；使该前体的至少一部分渗透至该光扩散性微粒的内部的工序；和使已渗透至该光扩散性微粒的内部的前体及未渗透至该光扩散性微粒的前体同时发生聚合而形成含有树脂成分及超微粒成分的基质，同时在该光扩散性微粒的表面附近内部形成浓度调节区的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 扩散 元件 制造 方法 偏振 液晶 显示装置 | ||
【主权项】：
一种光扩散元件的制造方法，其包括如下工序：使含有树脂成分的前体及超微粒成分的基质形成材料与光扩散性微粒相接触的工序；使该前体的至少一部分渗透至该光扩散性微粒的内部的工序；和使已渗透至该光扩散性微粒的内部的前体及未渗透至该光扩散性微粒的前体同时发生聚合而形成含有树脂成分及超微粒成分的基质，同时在该光扩散性微粒的表面附近内部形成浓度调节区的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社，未经日东电工株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080012533.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
