[发明专利]具有真空电介质的电容性表压传感器有效

专利信息
申请号: 201080012018.3 申请日: 2010-03-02
公开(公告)号: CN102356307A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 戴维·A·布罗登 申请(专利权)人: 罗斯蒙德公司
主分类号: G01L9/00 分类号: G01L9/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 潘剑颖
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种现场设备(100),包括:电容性表压传感器,被配置为测量过程介质的表压。压力传感器的传感器主体(110)包括第一和第二腔(112,113)。第二腔(113)处于真空状态下并形成压力传感器的真空电介质。在传感器主体(110)中形成大气参考口(180),并且大气参考口(180)使第一腔(112)与环境大气压力保持平衡。传感器的过程介质入口(125)被配置为耦接至过程介质源(120)。传感器包括位于第二腔(113)和介质入口(125)之间的导电的可弯曲隔膜(130)。电容性板(140)与隔膜(130)相关地被部署在第二腔(113)中,从而隔膜(130)的弯曲产生电容的改变。现场设备(100)还包括传感器电路(185)和变送器电路(190),所述传感器电路产生传感器信号,所述变送器电路通过过程通信环(195)发送与传感器信号有关的信息,所述传感器信号指示过程介质(120)的表压。
搜索关键词: 具有 真空 电介质 电容 性表压 传感器
【主权项】:
一种电容性表压变送器,包括:电容性表压传感器,包括:传感器主体,在所述传感器主体中限定了主腔;薄环形隔膜,被部署在主腔中,并将所述主腔划分为第一部分和第二部分,所述第二部分处于真空状态下并形成真空电介质;大气参考口,形成于所述传感器主体中,并使腔的第一部分保持于环境大气压力;过程介质入口,被配置为耦接至过程介质的源;导电的可弯曲隔膜,被部署在腔的第二部分和所述过程介质入口之间;以及至少一个电容性板,与隔膜相对地被部署在腔的第二部分中,从而所述导电的可弯曲隔膜的弯曲产生在至少一个电容性板和导电的可弯曲隔膜之间的电容的改变,所述电容指示过程介质的表压。
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