[发明专利]取向碳纳米管集合体的制造装置有效
| 申请号： | 201080007139.9 | 申请日： | 2010-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN102307808A | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 涩谷明庆;川田敬一;畠贤治;汤村守雄 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 所涉及的取向碳纳米管集合体的制造装置是一种，以基材表面所形成的催化剂的周边环作为境还原气体环境，同时对前述催化剂以及前述还原气体中的至少一方进行加热之后，将前述催化剂的周边环境设定为原料气体环境，同时对前述催化剂以及前述原料气体中的至少一方进行加热，使取向碳纳米管集合体生长的取向碳纳米管集合体的制造装置，暴露在前述还原气体中的装置部件以及暴露在前述原料气体中的装置部件之中，至少有一个装置部件的材质为耐热合金，并且该表面经过了溶融镀铝处理。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 纳米 集合体 制造 装置 | ||
【主权项】：
一种取向碳纳米管集合体的制造装置，该装置将基材表面上形成的催化剂的周围环境设为还原气体环境，同时加热前述催化剂以及前述还原气体中的至少一方之后，将前述催化剂的周围环境设为原料气体环境，同时加热前述催化剂以及前述原料气体中的至少一方，使取向碳纳米管集合体生长，其特征在于，暴露在前述还原气体中的装置部件以及暴露在前述原料气体中的装置部件之中，至少有一个装置部件的材质为耐热合金，且该表面经过了溶融镀铝处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日本瑞翁株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所，未经日本瑞翁株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201080007139.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
