[发明专利]芳香族化合物及其制造方法无效
申请号: | 201080005107.5 | 申请日: | 2010-01-22 |
公开(公告)号: | CN102292342A | 公开(公告)日: | 2011-12-21 |
发明(设计)人: | 垣内史敏;寺井宏树 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社;学校法人庆应义塾 |
主分类号: | C07F7/08 | 分类号: | C07F7/08;H01L21/336;H01L29/786;H01L29/80;H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
一种下述通式(1)所示的芳香族化合物。[化1] |
||
搜索关键词: | 芳香族 化合物 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种下述通式(1)所示的芳香族化合物:[化1]
式中,A环和B环分别独立地表示可以具有取代基的苯环、可以具有取代基的由2~4个环组成的芳香族稠合环、可以具有取代基的芳香族杂环或可以具有取代基的由2~4个环组成的芳香族稠合杂环,R1a表示-CHR2a-CHR2bR2c所示的基团,R1b、R1c和R1d分别独立地表示氢原子、可以具有取代基的芳基或-CHR2d-CHR2eR2f所示的基团,但是,R1b、R1c和R1d中的至少2个不为氢原子,R2a、R2b和R2c分别独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基或取代甲硅烷基,R2a和R2b可相互结合形成环,R2d、R2e和R2f分别独立地表示氢原子、可以具有取代基的烷基、可以具有取代基的芳基或取代甲硅烷基,R2d和R2e可相互结合形成环,此外,R2d、R2e、R2f各自为多个的情况下,相同符号的基团之间可以各自是相同的基团,也可以是不同的基团。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社;学校法人庆应义塾,未经住友化学株式会社;学校法人庆应义塾许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201080005107.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有汽缸停用的阀门升程控制装置
- 下一篇:梯形隧道挖掘机