[实用新型]一种高密度、高鲁棒性的亚阈值存储电路接口电路无效
| 申请号: | 201020699098.1 | 申请日: | 2010-12-31 | 
| 公开(公告)号: | CN202067564U | 公开(公告)日: | 2011-12-07 | 
| 发明(设计)人: | 柏娜;龚展立;仇名强;李瑞兴;吴维奇 | 申请(专利权)人: | 东南大学 | 
| 主分类号: | G11C11/40 | 分类号: | G11C11/40 | 
| 代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 32112 | 代理人: | 汤志武 | 
| 地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 | 
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| 摘要: | 一种高密度、高鲁棒性的亚阈值存储电路接口电路,用于从超阈值区域到亚阈值区域的连接,由晶体管构成施密特反相器:PMOS管P1和两个NMOS管N1、N2的栅端与输入端Vin连接;PMOS管P1的源端接电源电压Vdd,漏端与NMOS管N1的漏端、NMOS管N3的栅端连接,并连接到输出端Vout;PMOS管P1的体端接电源电压Vdd;NMOS管N1、N2、N3的体端各自均连接地端GND;NMOS管N1的源端、NMOS管N2的漏端以及NMOS管N3的源端连接;NMOS管N2的源端接地;NMOS管N3的漏端接电源电压Vdd。本实用新型实现噪声容限最大,具备良好的抗干扰能力和工艺容忍度,占用的芯片面积小。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 高密度 高鲁棒性 阈值 存储 电路 接口 | ||
【主权项】:
                一种高密度、高鲁棒性的亚阈值存储电路接口电路,用于从超阈值区域到亚阈值区域的连接,其特征是包括一个PMOS管P1,三个NMOS管N1、N2、N3,所述四个晶体管构成施密特反相器,具体为:PMOS管P1和两个NMOS管N1、N2的栅端与输入端Vin连接;PMOS管P1的源端接电源电压Vdd,漏端与NMOS管N1的漏端、NMOS管N3的栅端连接在一起,并连接到输出端Vout;PMOS管P1的体端接电源电压Vdd;NMOS管N1、N2、N3的体端各自均连接地端GND;NMOS管N1的源端、NMOS管N2的漏端以及NMOS管N3的源端连接在一起;NMOS管N2的源端接地;NMOS管N3的漏端接电源电压Vdd。
            
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