[实用新型]离子源弧室无效
| 申请号： | 201020662788.X | 申请日： | 2010-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN202094079U | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 林义鹏;武大柱;周长银 | 申请（专利权）人： | 深圳深爱半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 吴平 |
| 地址： | 518118 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种离子源弧室，包括盖板及具有容置空间的弧室壁，所述容置空间具有一开口，所述离子源弧室还包括尺寸与所述盖板匹配的垫片，所述垫片与所述盖板重叠后盖设于所述开口处，所述盖板中间部位开设有盖板孔，所述垫片与所述盖板孔相对应的位置开设有垫片孔，所述垫片孔的尺寸小于所述盖板孔的尺寸，使离子束通过所述垫片孔时被所述垫片所遮挡。这种离子源弧室，通过增加了垫片，能够很好的控制弧室孔孔径，从而改善吸取电流、束流稳定性和注入均匀性，当弧室孔孔径发生变化后，更换垫片即可，从而延长了盖板的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 离子源 | ||
【主权项】：
一种离子源弧室，包括盖板及具有容置空间的弧室壁，所述容置空间具有一开口，其特征在于，所述离子源弧室还包括尺寸与所述盖板匹配的垫片，所述垫片与所述盖板重叠后盖设于所述开口处，所述盖板中间部位开设有盖板孔，所述垫片与所述盖板孔相对应的位置开设有垫片孔，所述垫片孔的尺寸小于所述盖板孔的尺寸，使离子束通过所述垫片孔时被所述垫片所遮挡。
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