[实用新型]真空处理装置有效
| 申请号: | 201020658163.6 | 申请日: | 2010-11-30 |
| 公开(公告)号: | CN201873752U | 公开(公告)日: | 2011-06-22 |
| 发明(设计)人: | 张昭 | 申请(专利权)人: | 理想能源设备有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 张静洁;徐雯琼 |
| 地址: | 英属维京群岛托*** | 国省代码: | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要: | 本实用新型涉及一种真空处理装置,其包含真空腔体、铰链机构和门体;所述铰链机构包含铰链臂、第一转动结构和第二转动结构;所述铰链臂的一端通过所述第一转动结构与所述真空腔体形成可转动连接;所述铰链臂的另一端通过所述第二转动结构与所述门体形成可转动连接;所述第一转动结构的转动阻力小于所述第二转动结构的转动阻力。如此所述门体关闭过程中,门体能与真空腔体保持平行,并能均匀挤压门体与真空腔体之间的密封环,延长该密封环寿命。所述第一转动结构的转动阻力小于第二转动结构的转动阻力;既可以方便门体的开启或关闭,同时能避免门体随意转动造成对门体和人员的碰撞损伤。 | ||
| 搜索关键词: | 真空 处理 装置 | ||
【主权项】:
一种真空处理装置,其包含真空腔体(21)、铰链机构和门体(22),其特征在于,所述铰链机构包含铰链臂(25)、第一转动结构(23)和第二转动结构(24);所述铰链臂(25)的一端通过所述第一转动结构(23)与所述真空腔体(21)形成可转动连接;所述铰链臂(25)的另一端通过所述第二转动结构(24)与所述门体(22)形成可转动连接;所述第一转动结构(23)的转动阻力小于所述第二转动结构(24)的转动阻力。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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