[实用新型]真空处理装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种真空处理装置。

背景技术

目前，对晶圆或玻璃基板进行的化学气相沉积等处理工艺，一般在密闭的真空环境下进行。通常将晶圆等放置在真空反应腔内，通过在与真空反应腔连接的门体上设置密封环，对真空反应腔进行密封。

如图1所示是现有技术一种真空处理装置，具体的，所述真空处理装置为化学气相沉积设备，其设置有一腔门2，其一端通过铰链15固定连接在真空反应腔1上，使腔门2可绕该铰链15转动并关闭。在真空反应腔1和腔门2远离铰链15的一端，对应设置有锁固装置13、14来锁固所述腔门2。所述腔门2面向真空反应腔1的表面边缘设置有密封环；在腔门2关闭同时压紧所述密封环，从而密封所述真空反应腔1。

然而，由于腔门2绕铰链15相对真空反应腔1作单轴转动，靠近铰链15端的密封环部分121会先与远离铰链15端的密封环部分122与腔体接触并形成挤压，从而使得密封环受压不均衡，容易造成密封环的损坏。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种真空处理装置，通过设置双铰链的转动结构来对应连接真空腔体和门体，使门体在关闭过程中，与真空腔体保持平行，从而能够均匀挤压门体与真空腔体之间的密封环，延长该密封环的使用时间。

为了达到上述目的，本发明的技术方案是提供一种真空处理装置。所述真空处理装置包含真空腔体、铰链机构和门体，其特征在于，所述铰链机构包含铰链臂、第一转动结构和第二转动结构；所述铰链臂的一端通过第一转动结构与真空腔体形成可转动连接；所述铰链臂的另一端通过第二转动结构与门体形成可转动连接；所述第一转动结构的转动阻力小于所述第二转动结构的转动阻力。

所述第一转动结构包含第一转轴和套设在所述第一转轴上的第一轴承，所述第一轴承为滚动轴承。

所述第一轴承包含固定设置在所述真空腔体上的两个支撑板；所述第一转轴与所述铰链臂的一端固定连接，所述第一转轴的轴向两端分别设置有圆锥转子；所述圆锥转子设置在所述第一转轴及其对应的所述支撑板之间，使所述第一转轴与所述支撑板形成可转动连接。

所述第一轴承通过焊接或螺钉固定的方式固定设置在所述真空腔体上。

所述第二转动结构包含第二转轴和套设在所述第二转轴上的第二轴承，所述第二轴承为滑动轴承。

所述第二轴承包含固定设置在所述门体上的两个支撑板；所述两个支撑板上对应设置连接孔；所述第二转轴与所述铰链臂的另一端固定连接，其轴向两端分别套接在相匹配的所述连接孔中，使得所述第二转轴可转动固定在所述支撑板上。

所述第二轴承进一步包含轴瓦，所述轴瓦设置在所述第二转轴与所述连接孔内壁之间。

所述第二轴承通过焊接或螺钉固定的方式固定设置在所述门体背向所述真空腔体的表面。

所述真空装置进一步包含一密封环，所述密封环设置在所述门体面向所述真空腔体一侧。

与现有技术相比，本实用新型真空处理装置，其优点在于：

本实用新型通过由第一转动结构、第二转动结构和铰链臂构成的双铰链结构连接门体与真空腔体，以使所述门体在关闭过程中，能与真空腔体保持平行。如此，关闭的门体对所述密封环能够均匀施力，从而使密封环不易损坏，使用时间有效延长。使第一转动结构的转动阻力小于第二转动结构的转动阻力。由于第一转动结构的转动阻力小，操作人员可以用较小的力气来开启或关闭门体，便于操作；第二转动结构的转动阻力大，可以防止门体相对铰链臂的反向转动，以避免门体随意转动造成对门体和人员碰撞损伤。

上述优选实施例的一种实现方式，是在所述第一转轴上设置滚动轴承，使连接铰链臂与真空腔体的第一转动结构的转动阻力较小，方便门体的开启或关闭。在所述第二转轴上设置滑动轴承，使连接铰链臂另一端和门体的第二转动结构的转动阻力较大，能避免门体随意转动造成对门体和人员的碰撞损伤。

附图说明

图1是现有化学气相沉积设备中腔门结构及其与真空反应腔的连接关系示意图；

图2是本实用新型真空处理装置的总体结构俯视图；

图3是本实用新型真空处理装置的总体结构正视图；

图4是图3所示真空处理装置中第一转动结构的结构放大示意图；

图5是图3所示真空处理装置中第二转动结构的结构放大示意图。

具体实施方式

以下结合附图说明本实用新型的具体实施方式。