[实用新型]变倍光学系统和成像设备有效
| 申请号： | 201020621222.2 | 申请日： | 2010-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN201945736U | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 远山信明 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B15/177 | 分类号： | G02B15/177;G02B3/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张成新 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种变倍光学系统，包括从物侧开始布置的：具有负屈光力的第一透镜组；孔径光阑；和具有正屈光力的第二透镜组。具有面向像侧的凹面的负透镜布置在所述第一透镜组的最远物侧，并且具有面向所述物侧的凹面和面向所述像侧的非球面的非球面透镜布置在所述第一透镜组的最远像侧。具有面向所述像侧的凸面的正透镜布置在所述非球面透镜的物侧，紧靠在所述非球面透镜之前。与在所述光轴附近相比，所述第一透镜组的最远像侧的非球面透镜的像侧表面包括在轴向光束的最外光线穿过的位置的外侧、具有更高的正能力的部分。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 成像 设备 | ||
【主权项】：
一种变倍光学系统，包括从所述变倍光学系统的物侧开始布置的：具有负屈光力的第一透镜组；孔径光阑；和具有正屈光力的第二透镜组，其特征在于，通过改变第一透镜组和第二透镜组之间的在光轴方向上的间距来改变变倍光学系统的放大倍率，并且当通过改变所述放大倍率使得必须进行像平面的位置校正时，通过在所述光轴的方向上移动第一透镜组来校正所述像平面的位置，并且其中具有面向变倍光学系统的像侧的凹面的负透镜布置在所述第一透镜组的最远物侧，并且具有面向所述物侧的凹面和面向所述像侧的非球面的非球面透镜布置在所述第一透镜组的最远像侧，并且具有面向所述像侧的凸面的正透镜布置在所述非球面透镜的物侧并紧靠在所述非球面透镜之前，并且其中与所述非球面透镜的在所述光轴附近的表面的区域的能力相比，所述非球面透镜的像侧表面包括在轴向光束的最外光线穿过的位置的外侧、具有更高的正能力的部分。
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