[实用新型]变倍光学系统和成像设备有效
| 申请号: | 201020621222.2 | 申请日: | 2010-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN201945736U | 公开(公告)日: | 2011-08-24 |
| 发明(设计)人: | 远山信明 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号: | G02B15/177 | 分类号: | G02B15/177;G02B3/02 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张成新 |
| 地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学系统 成像 设备 | ||
1.一种变倍光学系统,包括从所述变倍光学系统的物侧开始布置的:
具有负屈光力的第一透镜组;
孔径光阑;和
具有正屈光力的第二透镜组,
其特征在于,通过改变第一透镜组和第二透镜组之间的在光轴方向上的间距来改变变倍光学系统的放大倍率,并且当通过改变所述放大倍率使得必须进行像平面的位置校正时,通过在所述光轴的方向上移动第一透镜组来校正所述像平面的位置,并且
其中具有面向变倍光学系统的像侧的凹面的负透镜布置在所述第一透镜组的最远物侧,并且具有面向所述物侧的凹面和面向所述像侧的非球面的非球面透镜布置在所述第一透镜组的最远像侧,并且具有面向所述像侧的凸面的正透镜布置在所述非球面透镜的物侧并紧靠在所述非球面透镜之前,并且
其中与所述非球面透镜的在所述光轴附近的表面的区域的能力相比,所述非球面透镜的像侧表面包括在轴向光束的最外光线穿过的位置的外侧、具有更高的正能力的部分。
2.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,当所述第一透镜组的非球面透镜的e-线的折射率为Ne4时,满足下面的公式(1):
Ne4>1.75 (1)。
3.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,所述第一透镜组是四个透镜的透镜组,包括从所述物侧依序布置的:
具有面向像侧的凹面的负透镜;
具有面向像侧的凹面的负透镜;
具有面向像侧的凸面的正透镜;和
具有面向物侧的凹面和面向像侧的非球面的非球面透镜。
4.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,所述孔 径光阑的位置固定不动。
5.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,当所述第一透镜组的正透镜的像侧表面的近轴曲率半径为Ra,并且所述第一透镜组的非球面透镜的物侧表面的近轴曲率半径为Rb时,满足下面的公式(2):
(Ra+Rb)/(Ra-Rb)>4.5 (2)。
6.根据权利要求1所述的变倍光学系统,其特征在于,关于所述第一透镜组的非球面透镜的像侧表面,满足下面的公式(3)和(4):
sag10-sag7<0 (3);和
sag10/sag7>2.5 (4)
其中sag10为当所述变倍光学系统设定在广角端时,从所述第一透镜组的非球面透镜的像侧表面的有效直径的最外位置处的点、到穿过所述非球面透镜的像侧表面和所述光轴之间的交点并垂直于所述光轴的平面的、在所述光轴方向上的距离,并且
sag7为当所述变倍光学系统设定在广角端时,从所述非球面透镜的像侧表面上的点、到穿过所述非球面透镜的像侧表面和所述光轴之间的交点并垂直于所述光轴的平面的、在所述光轴方向上的距离,从所述非球面透镜的像侧表面上的点到所述光轴的距离为所述有效直径的最外位置到所述光轴的距离的70%。
7.一种成像设备,其特征在于,包括权利要求1-6中任一项所述的变倍光学系统。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020621222.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





