[实用新型]晶片腐蚀装置无效

专利信息
申请号: 201020618155.9 申请日: 2010-11-23
公开(公告)号: CN201946577U 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: 卢巍 申请(专利权)人: 嘉兴鲲鹏电子有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;C30B33/10
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 33200 代理人: 王嘉华
地址: 314000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种晶片腐蚀装置,它包括浸液槽,浸液槽内有支架,支架上有一个传动轴,在浸液槽的一侧有一个电机,电机连接输出齿轮,输出齿轮与传动轴上的输入齿轮啮合,其特征在于上述传动轴上分别有左联动齿轮和右联动齿轮,支架上端的凹槽内放置浸洗罐,浸洗罐两端有轴,一端的轴上有传动齿轮,浸洗罐的表面有孔,上述左联动齿轮和右联动齿轮分别与传动齿轮啮合。本实用新型的晶片腐蚀装置,使用时,可以将胶合在一起的晶片放入浸洗罐内,腐蚀液由浸洗罐表面的孔进入罐内,并由电机带动浸洗灌转动,均匀快速腐蚀。因此,本实用新型具有结构简单、效率高的特点,而且分离后的晶片在灌内不散落。
搜索关键词: 晶片 腐蚀 装置
【主权项】:
一种晶片腐蚀装置,它包括浸液槽(1),浸液槽(1)内有支架(2),支架(2)上有一个传动轴(7),在浸液槽(1)的一侧有一个电机(11),电机(11)连接输出齿轮(10),输出齿轮(10)与传动轴(7)上的输入齿轮(9)啮合,其特征在于上述传动轴(7)上分别有左联动齿轮(4)和右联动齿轮(8),支架(2)上端的凹槽内放置浸洗罐(6),浸洗罐(6)两端有轴(3),其中一端的轴(3)上有传动齿轮(5),浸洗罐(6)的表面有孔,上述左联动齿轮(4)和右联动齿轮(8)分别与传动齿轮(5)啮合。
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