[实用新型]还原炉喷嘴可调结构

摘要

本实用新型涉及一种还原炉喷嘴可调结构，用于控制多晶硅生产设备还原炉的进料。所述结构包括喷头组件(1)和接管(2)，所述喷头组件(1)包括喷头座(1-1)和喷头(1-2)，喷头(1-2)与喷头座(1-1)一端的内孔螺纹连接，喷头座(1-1)另一端的外缘与接管(2)一端的内孔螺纹连接，所述喷头(1-2)外缘开设有多条螺旋槽(1-2-1)。本实用新型喷嘴高度和流速可调，进气可以达到还原炉顶部。因此可以最大限度的满足还原炉的不同进料要求，实现还原炉的硅棒均匀快速生长，提高多晶硅的收率。

主权项

一种还原炉喷嘴可调结构，其特征在于所述结构包括喷头组件(1)和接管(2)，所述喷头组件(1)包括喷头座(1 1)和喷头(1 2)，喷头(1 2)与喷头座(1 1)一端的内孔螺纹连接，喷头座(1 1)另一端的外缘与接管(2)一端的内孔螺纹连接，所述喷头(1 2)外缘开设有多条螺旋槽(1 2 1)。