[实用新型]还原炉喷嘴可调结构

说明书

(一)技术领域

本实用新型涉及一种还原炉，具体涉及一种多晶硅行业大型还原炉喷嘴可调结构。属于多晶硅的生产设备技术领域。

(二)背景技术

全球太阳能的开发和利用带动了光伏产业的快速发展，同时世界集成电路市场近年来稳步增长，多晶硅做为光伏产业和半导体产业的基础材料，是发展信息产业和新能源产业的重要基石。

还原炉做为多晶硅生产的核心设备，对多晶硅的生产起着极其重要的作用，还原炉的喷嘴又是还原炉的进料的咽喉，目前国内外炉型配备的喷嘴普遍存在如下问题：

1、喷嘴高度无法调节。

2、喷嘴流速无法调节。

3、进气无法达到还原炉顶部，造成硅棒生长下粗上细不均匀。

(三)发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足，提供一种喷嘴高度和流速可调、进气可以达到还原炉顶部的还原炉喷嘴可调结构。

本实用新型的目的是这样实现的：一种还原炉喷嘴可调结构，包括喷头组件和接管，所述喷头组件包括喷头座和喷头，喷头与喷头座一端的内孔螺纹连接，喷头座另一端的外缘与接管一端的内孔螺纹连接，所述喷头外缘开设有多条螺旋槽。

本实用新型的有益效果是：

1、由于不同炉型对喷嘴高度要求不同，通过设置接管，可以实现喷嘴高度的调节，只需更换不同长度的接管，即可满足各种炉型的需求。

2、通过设置喷头，可以任意更换不同中心孔直径(D)大小的喷头，进而控制进料流速。实现对喷嘴流速的调节，满足不同炉型的要求。

3、针对原有喷嘴进气无法达到还原炉顶部，采用了螺旋进气原理，在喷头的外侧设置螺旋槽，进气经过螺旋线带动中心孔的进气旋转，使进气螺旋上升，顺利达到炉筒顶部；又因为可以根据进气要求更换不同螺旋槽尺寸(B，H)的喷头，进而控制旋转速度。

通过上述喷嘴结构调节，可以最大限度的满足还原炉的不同进料要求，实现还原炉的硅棒均匀快速生长，提高多晶硅的收率。

(四)附图说明

图1为本实用新型还原炉喷嘴可调结构示意图。

图2为本实用新型的喷头组件结构示意图。

图3为本实用新型的喷头结构示意图。

图4为图3的俯视图。

图5为图3的外缘展开图。

图6为图5的A-A旋转图。

图中附图标记：

喷头组件1、喷头座1-1、喷头1-2、螺旋槽1-2-1；

接管2。

(五)具体实施方式

参见图1，图1为本实用新型还原炉喷嘴可调结构示意图。由图1可以看出，本实用新型还原炉喷嘴可调结构，由喷头组件1和接管2组成。喷头组件1螺纹连接在接管2的一端。

参见图2，图2为本实用新型的喷头组件结构示意图。由图2可以看出，所述喷头组件1由喷头座1-1和喷头1-2组成。喷头1-2与喷头座1-1一端的内孔螺纹连接，喷头座1-1另一端的外缘与接管2一端的内孔螺纹连接，如图1。

参见图3～6，图3为本实用新型的喷头结构示意图。图4为图3的俯视图。图5为图3的外缘展开图。图6为图5的A-A旋转图。由图3～6可以看出，所述喷头1-2外缘开设有多条螺旋槽1-2-1。