[实用新型]一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置无效
申请号: | 201020284734.4 | 申请日: | 2010-08-09 |
公开(公告)号: | CN202099382U | 公开(公告)日: | 2012-01-04 |
发明(设计)人: | 李刚;常依斌 | 申请(专利权)人: | 上海蓝宝光电材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人: | 林俭良 |
地址: | 201616*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置,该装置主要包括质量流量控制器MFC-1、MFC2,压力控制器PC-1,隔膜阀CA-1、CA-2、CA-3、CA-4、CA-5,单向阀CV-1、CV-2,质量流量计MFM-1,H2供气管路(1),N2供气管路(2),NH3供气管路(3),H2被控管路(4),N2被控管路(5),NH3被控管路(6),M供气管路(7)。常规方法,金属有机物化学气相沉积设备在N2的入口处采用带质量流量计的压力控制器,但受零部件技术所限无法满足大流量的需求,这里采用压力控制器和质量流量计串联的方式,不仅解决了大流量的问题,还实现了供气管路(7)的压力和质量流量控制的灵活切换。为了保证H2管路和NH3管路不造成安全隐患,通过CV-1和CA-4的控制可以方便实现H2管路的N2吹扫;通过CV-2和CA-5的控制可以方便实现NH3管路的N2吹扫。 | ||
搜索关键词: | 一种 金属 有机物 化学 沉积 设备 气体 控制 装置 | ||
【主权项】:
一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置,包括质量流量控制器MFC‑1、MFC2,压力控制器PC‑1,隔膜阀CA‑1、CA‑2、CA‑3、CA‑4、CA‑5,单向阀CV‑1、CV‑2,质量流量计MFM‑1,H2供气管路(1),N2供气管路(2),NH3供气管路(3),H2被控管路(4),N2被控管路(5),NH3被控管路(6),供气管路(7),隔膜阀CA‑1、质量流量控制器MFC‑1组成H2控制管线,隔膜阀CA‑2、质量流量计MFM‑1、压力控制器PC‑1组成N2控制管线,隔膜阀CA‑3、质量流量控制器MFC‑2组成NH3控制管线,N2可以通过CV‑1、CA‑4进入H2管线,N2可以通过CV‑2、CA‑5进入NH3管线,根据控制目标调节后的H2、N2、NH3汇集形成供气管路(7)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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