[实用新型]一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置无效
| 申请号： | 201020284734.4 | 申请日： | 2010-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN202099382U | 公开（公告）日： | 2012-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李刚;常依斌 | 申请（专利权）人： | 上海蓝宝光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 林俭良 |
| 地址： | 201616*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 金属 有机物 化学 沉积 设备 气体 控制 装置 | ||
1.一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置，包括质量流量控制器MFC-1、MFC2，压力控制器PC-1，隔膜阀CA-1、CA-2、CA-3、CA-4、CA-5，单向阀CV-1、CV-2，质量流量计MFM-1，H2供气管路(1)，N2供气管路(2)，NH3供气管路(3)，H2被控管路(4)，N2被控管路(5)，NH3被控管路(6)，供气管路(7)，隔膜阀CA-1、质量流量控制器MFC-1组成H2控制管线，隔膜阀CA-2、质量流量计MFM-1、压力控制器PC-1组成N2控制管线，隔膜阀CA-3、质量流量控制器MFC-2组成NH3控制管线，N2可以通过CV-1、CA-4进入H2管线，N2可以通过CV-2、CA-5进入NH3管线，根据控制目标调节后的H2、N2、NH3汇集形成供气管路(7)。
2.如权利要求1所述的一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于N2管路中的压力控制器和质量流量计分离。
3.如权利要求1所述的一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于H2管路和N2管路之间有一条隔膜阀CA-4、单向阀CV-1和管路组成的单向通路，从而N2对H2管路的吹扫。
4.如权利要求1所述的一种金属有机物化学气相沉积设备的气体控制装置，其特征在于NH3管路和N2管路之间有一条隔膜阀CA-5、单向阀CV-2和管路组成的单向通路，从而N2对NH3管路的吹扫。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
