[实用新型]研磨液手臂以及化学机械研磨设备有效
| 申请号： | 201020264923.5 | 申请日： | 2010-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN201841472U | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 高思玮 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B57/02 | 分类号： | B24B57/02;B24B37/00;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种研磨液手臂以及化学机械研磨设备，所述研磨液手臂设置在化学机械研磨设备中，所述化学机械研磨设备包括多个研磨平台、罩设在多个研磨平台上的盖子、去离子水管路以及研磨液管路，所述研磨液手臂包括：壳体，至少一个研磨液喷嘴、至少一个第一清洗喷嘴和至少一个第二清洗喷嘴，研磨液喷嘴与研磨液管路连通，第一清洗喷嘴和第二清洗喷嘴均设置于壳体上并与去离子水管路连通，第二清洗喷嘴的方向与盖子的方向相对应，以使第二清洗喷嘴喷出的去离子水能够清洗盖子。所述研磨液手臂的第二清洗喷嘴喷出的去离子水可清洗盖子上残留的研磨液，避免晶片表面产生划痕缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 手臂 以及 化学 机械 设备 | ||
【主权项】：
一种研磨液手臂，设置在化学机械研磨设备中，所述化学机械研磨设备包括多个研磨平台、罩设在多个研磨平台上的盖子、去离子水管路以及研磨液管路，其特征在于，所述研磨液手臂包括：壳体，至少一个研磨液喷嘴、至少一个第一清洗喷嘴以及至少一个第二清洗喷嘴，所述研磨液喷嘴与所述研磨液管路连通，所述第一清洗喷嘴和第二清洗喷嘴均设置于所述壳体上并与所述去离子水管路连通，所述第二清洗喷嘴的方向与所述盖子的方向相对应，以使所述第二清洗喷嘴喷出的去离子水能够清洗所述盖子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司，未经中芯国际集成电路制造（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201020264923.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
