[实用新型]研磨液手臂以及化学机械研磨设备有效
申请号: | 201020264923.5 | 申请日: | 2010-07-20 |
公开(公告)号: | CN201841472U | 公开(公告)日: | 2011-05-25 |
发明(设计)人: | 高思玮 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | B24B57/02 | 分类号: | B24B57/02;B24B37/00;H01L21/304 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 研磨 手臂 以及 化学 机械 设备 | ||
1.一种研磨液手臂,设置在化学机械研磨设备中,所述化学机械研磨设备包括多个研磨平台、罩设在多个研磨平台上的盖子、去离子水管路以及研磨液管路,其特征在于,所述研磨液手臂包括:壳体,至少一个研磨液喷嘴、至少一个第一清洗喷嘴以及至少一个第二清洗喷嘴,所述研磨液喷嘴与所述研磨液管路连通,所述第一清洗喷嘴和第二清洗喷嘴均设置于所述壳体上并与所述去离子水管路连通,所述第二清洗喷嘴的方向与所述盖子的方向相对应,以使所述第二清洗喷嘴喷出的去离子水能够清洗所述盖子。
2.如权利要求1所述的研磨液手臂,其特征在于,所述壳体包括第一壁、第二壁以及由所述第一壁和第二壁限定的容置空间。
3.如权利要求2所述的研磨液手臂,其特征在于,所述第一清洗喷嘴设置在所述第一壁上,所述第二清洗喷嘴设置在所述第二壁上。
4.如权利要求2所述的研磨液手臂,其特征在于,所述第二清洗喷嘴与水平方向的夹角在30度至75度之间。
5.如权利要求2所述的研磨液手臂,其特征在于,还包括第一去离子水支路和设置在第一去离子水支路上的第一阀,所述第一去离子水支路设置在所述容置空间内,所述第一清洗喷嘴通过第一去离子水支路与去离子水管路连通。
6.如权利要求2所述的研磨液手臂,其特征在于,还包括第二去离子水支路和设置在第二去离子水支路上的第二阀,所述第二去离子水支路设置在所述容置空间内,所述第二清洗喷嘴通过第二去离子水支路与去离子水管路连通。
7.如权利要求1至6中任意一项所述的研磨液手臂,其特征在于,所述第二清洗喷嘴的数量为2~5个。
8.一种化学机械研磨设备,包括多个研磨平台、罩设在多个研磨平台上的盖子、去离子水管路、研磨液管路以及多个研磨液手臂,其特征在于,所述研磨液手臂包括:壳体,至少一个研磨液喷嘴、至少一个第一清洗喷嘴以及至少一个第二清洗喷嘴,所述研磨液喷嘴与所述研磨液管路连通,所述第一清洗喷嘴和第二清洗喷嘴均设置于所述壳体上并与所述去离子水管路连通,所述第二清洗喷嘴的方向与所述盖子的方向相对应,以使所述第二清洗喷嘴喷出的去离子水能够清洗所述盖子。
9.如权利要求8所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述壳体包括第一壁、第二壁以及由所述第一壁和第二壁限定的容置空间。
10.如权利要求9所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述第一清洗喷嘴设置在所述第一壁上,所述第二清洗喷嘴设置在所述第二壁上。
11.如权利要求9所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述第二清洗喷嘴与水平方向的夹角在30度至75度之间。
12.如权利要求9所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述研磨液手臂还包括第一去离子水支路和设置在第一去离子水支路上的第一阀,所述第一去离子水支路设置在所述容置空间内,所述第一清洗喷嘴通过第一去离子水支路与所述去离子水管路连通。
13.如权利要求9所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述研磨液手臂还包括第二去离子水支路和设置在第二去离子水支路上的第二阀,所述第二去离子水支路设置在所述容置空间内,所述第二清洗喷嘴通过第二去离子水支路与所述去离子水管路连通。
14.如权利要求8至13中任意一项所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述第二清洗喷嘴的数量为2~5个。
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