[实用新型]一种曝光设备有效
| 申请号： | 201020250227.9 | 申请日： | 2010-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN201698153U | 公开（公告）日： | 2011-01-05 |
| 发明（设计）人： | 郝金刚;董云 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种曝光设备，属于光刻技术领域，其可解决现有的曝光设备容易产生重复缺陷的问题。本实用新型的曝光设备包括光源、基板支持部件、与竖直方向的夹角a为0度或为锐角的掩模板，曝光光线透过掩模板的透光区后照射到所述待曝光的基板上形成曝光图形。本实用新型的曝光设备可用于半导体光刻过程中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种曝光设备，包括：光源，用于发出曝光光线；基板支持部件，用于支持待曝光的基板；掩模板，包括遮光区和透光区，所述曝光光线透过所述透光区后照射到所述基板上形成曝光图形；其特征在于，所述掩模板与竖直方向的夹角a为0度或为锐角。
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