[实用新型]一种曝光设备

权利要求书

1.一种曝光设备，包括：

光源，用于发出曝光光线；

基板支持部件，用于支持待曝光的基板；

掩模板，包括遮光区和透光区，所述曝光光线透过所述透光区后照射到所述基板上形成曝光图形；

其特征在于，

所述掩模板与竖直方向的夹角a为0度或为锐角。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述夹角a大于等于0度且小于等于5度，或所述夹角a大于等于5度且小于等于10度，或所述夹角a大于等于10度且小于等于30度。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括：

反光部件，用于反射透过所述掩模板的曝光光线，经反射的所述曝光光线照射到所述基板上。

4.根据权利要求3所述的曝光设备，其特征在于，

所述光源用于沿水平方向发出曝光光线，所述曝光光线沿水平方向照射到所述掩模板上；

所述反光部件用于将所述曝光光线反射到竖直向下的方向；

所述基板支持部件用于水平地支持所述基板，经所述反光部件反射的曝光光线竖直向下地照射到所述基板上。

5.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，

所述基板支持部件用于将基板支持成与竖直方向呈夹角b的方式，所述夹角b为0度或为锐角。

6.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，所述夹角b大于等于0度且小于等于5度，或所述夹角b大于等于5度且小于等于10度，或所述夹角b大于等于10度且小于等于30度。

7.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，所述基板支持部件用于将所述基板支持成与所述掩模板平行的方式。

8.根据权利要求5所述的曝光设备，其特征在于，

所述光源用于沿水平方向发出曝光光线，所述曝光光线沿水平方向照射到所述掩模板上，透过所述掩模板的曝光光线沿水平方向照射到所述基板上。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的曝光设备，其特征在于，

所述掩模板透光区中任意两个点间的距离d为：

d＝|c×sin(α)/sin(β)|；

其中c为在所述曝光图形中与所述掩模板上的两个点相对应的两点间所期望的距离；α为所述曝光图形中的两个对应点间的连线与入射到所述基板的曝光光线间的夹角；β为所述掩模板上的两个点间的连线与入射到所述掩模板的曝光光线间的夹角。

10.根据权利要求1至8中任意一项所述的曝光设备，其特征在于，还包括：

光学校正系统，透过所述掩模板的曝光光线经过所述光学校正系统后照射到所述基板上；

隔离箱体，至少包围所述光学校正系统，且具有供所述曝光光线穿过的开口。