[实用新型]一种二极管清洗机的防污装置无效
| 申请号： | 201020178721.9 | 申请日： | 2010-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN201717243U | 公开（公告）日： | 2011-01-19 |
| 发明（设计）人： | 黄建山;张练佳;陈建华;梅余锋;贲海蛟 | 申请（专利权）人： | 如皋市易达电子有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/00 | 分类号： | H01L21/00;H01L21/02;H01L21/329 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所 11316 | 代理人： | 钟廷良;徐文 |
| 地址： | 226500 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种二极管清洗机的防污装置，包括由一块块酸洗板前后排列构成的流水线，流水线末端设有可推动酸洗板前移的水平气缸，所述流水线上的酸洗板从后方的酸洗区向前方的水洗区移动，其创新点在于：所述水洗区与酸洗区之间设有垂直方向的防污板，所述防污板与垂直气缸连接，该垂直气缸与水平气缸均接入可编程控制器。本实用新型的位于酸洗区的酸洗板完成酸洗后，水平气缸推动酸洗板前移，进入水洗区进行残留酸的清洗，后块酸洗板进入酸洗区酸洗。同时，垂直气缸推动防污板下移，挡在分别进行水洗与酸洗的两块酸洗板之间，防止水洗区的清洁水溅射到酸洗区，造成后块酸洗板上二极管的酸洗品质下降。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二极管 清洗 防污 装置 | ||
【主权项】：
一种二极管清洗机的防污装置，包括由一块块酸洗板前后排列构成的流水线，流水线末端设有可推动酸洗板前移的水平气缸，所述流水线上的酸洗板从后方的酸洗区向前方的水洗区移动，其特征在于：所述水洗区与酸洗区之间设有垂直方向的防污板，所述防污板与垂直气缸连接，该垂直气缸与水平气缸均接入可编程控制器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
