[实用新型]一种二极管清洗机的防污装置无效
| 申请号: | 201020178721.9 | 申请日: | 2010-05-05 |
| 公开(公告)号: | CN201717243U | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
| 发明(设计)人: | 黄建山;张练佳;陈建华;梅余锋;贲海蛟 | 申请(专利权)人: | 如皋市易达电子有限责任公司 |
| 主分类号: | H01L21/00 | 分类号: | H01L21/00;H01L21/02;H01L21/329 |
| 代理公司: | 北京一格知识产权代理事务所 11316 | 代理人: | 钟廷良;徐文 |
| 地址: | 226500 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 二极管 清洗 防污 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种二极管清洗机,特别涉及一种二极管清洗机的防污装置。
背景技术
在二极管的生产工艺中,须对经过酸洗后的二极管半成品表面残留的酸进行水洗,水洗时水洗区的清洗水易溅射到酸洗区,造成后方正在酸洗的二极管半成品腐蚀不均,影响产品质量。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是提供一种二极管清洗机的防污装置,可防止水洗区的水溅射到酸洗区影响酸洗质量。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案为:一种二极管清洗机的防污装置,包括由一块块酸洗板前后排列构成的流水线,流水线末端设有可推动酸洗板前移的水平气缸,所述流水线上的酸洗板从后方的酸洗区向前方的水洗区移动,其创新点在于:所述水洗区与酸洗区之间设有垂直方向的防污板,所述防污板与垂直气缸连接,该垂直气缸与水平气缸均接入可编程控制器。
本实用新型的优点在于:位于酸洗区的酸洗板完成酸洗后,水平气缸推动酸洗板前移,进入水洗区进行残留酸的清洗,后块酸洗板进入酸洗区酸洗。同时,垂直气缸推动防污板下移,挡在分别进行水洗与酸洗的两块酸洗板之间,防止水洗区的清洁水溅射到酸洗区,造成后块酸洗板上二极管的酸洗品质下降。
附图说明
附图为本实用新型二极管清洗机的防污装置结构示意图。
具体实施方式
如附图所示,包括由一块块酸洗板1前后排列构成的流水线,流水线的末端设有可推动酸洗板1前移的水平气缸3,流水线上的酸洗板1在水平气缸3的推动下,间歇性前移,从后方的酸洗区7向前方的水洗区6移动。
在水洗区6与酸洗区7之间设有垂直方向的防污板4,该防污板4与垂直气缸5连接,垂直气缸5与水平气缸3均接入控制柜的可编程控制器。
工作时,位于酸洗区7的酸洗板1a上的二极管半成品完成酸洗后,水平气缸3推动酸洗板1a前移,进入水洗区6,后一块酸洗板1b移至酸洗区7进行酸洗工艺。当水平气缸3推动酸洗板后,垂直气缸5推动防污板4下移,挡在酸洗板1a和酸洗板1b之间,防止防止水洗区6的清洁水溅射到酸洗区7,造成后块酸洗板1b上二极管的酸洗品质下降。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于如皋市易达电子有限责任公司,未经如皋市易达电子有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201020178721.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种拉丝机可调式模座
- 下一篇:钉积木片玩具
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





