[发明专利]等离子体监测方法和等离子体监测装置有效
申请号: | 201010617590.4 | 申请日: | 2004-04-26 |
公开(公告)号: | CN102183509A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 松土龙夫;濑川澄江;輿水地盐 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G01N21/68 | 分类号: | G01N21/68;H01J37/32;H01L21/311 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种即使在低电子密度条件或高压力条件下也可正确测定等离子体中的电子密度的等离子体监测方法。该等离子体电子密度测定装置在测定部(54)中具备矢量式的网络分析器(68)。由该网络分析器(68)测定复数表示的反射系数,取得其虚部的频率特性,并且测量控制部(74)读取复数反射系数的虚部零交叉点的谐振频率,根据谐振频率算出电子密度的测定值。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 监测 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种等离子体监测方法,其特征在于,具有如下工序:将透明的绝缘管插入并装配在可生成或导入等离子体的容器室内的工序;将前端具有感光面的棒状光传输探针插入所述绝缘管的管内,使从所述容器内的等离子体发出的光通过所述绝缘管入射到所述探针的感光面的工序;和根据从所述探针另一端面放射的光,测量来自所述等离子体的发光的工序。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010617590.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。