[发明专利]发光二极管及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201010609677.7 申请日: 2010-12-28
公开(公告)号: CN102544279B 公开(公告)日: 2016-11-09
发明(设计)人: 许嘉麟 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: H01L33/06 分类号: H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种发光二极管包括:基板、N型氮化镓薄膜层、绝缘层、N型氮化镓纳米线层、量子阱层以及P型氮化镓纳米线层。该N型氮化镓薄膜层形成在该基板上。该绝缘层形成在该N型氮化镓薄膜层的上,该绝缘层具有一个远离该N型氮化镓薄膜层的上表面,该绝缘层的上表面上形成至少一个凹槽,以使该N型氮化镓薄膜层具有暴露在该凹槽的部分。该N型氮化镓纳米线层形成在该绝缘层的至少一个凹槽内,且该N型氮化镓纳米线层的端部突出在该绝缘层外。该量子阱层包覆该N型氮化镓纳米线层突出在绝缘层外的部分。该P型氮化镓纳米线层包覆于该量子阱层。本发明还涉及一种发光二极管的形成方法。
搜索关键词: 发光二极管 及其 形成 方法
【主权项】:
一种发光二极管,其特征在于,该发光二极管包括:基板;N型氮化镓薄膜层,其形成在该基板上;绝缘层,其形成在该N型氮化镓薄膜层的上,该绝缘层具有一个远离该N型氮化镓薄膜层的上表面,该绝缘层的上表面上形成至少一个凹槽,以使该N型氮化镓薄膜层具有暴露在该凹槽的部分;N型氮化镓纳米线层,其形成在该绝缘层的至少一个凹槽内,且该N型氮化镓纳米线层的端部突出在该绝缘层外;量子阱层,其包覆该N型氮化镓纳米线层突出在绝缘层外的部分;及P型氮化镓纳米线层,其包覆于该量子阱层,还包括一个P型透明电极层及形成在P型氮化镓纳米线层的远离该量子阱层的一端的P型氧化锌纳米线层,所述P型透明电极层包覆该P型氧化锌纳米线层暴露在外的整个表面以及该P型氮化镓纳米线层暴露在外的整个表面。
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