[发明专利]有机模板掺杂制备孔隙率可调控纳米多孔减反增透薄膜的方法

摘要

本发明涉及有机模板掺杂制备孔隙率可调控纳米多孔减反增透薄膜的方法，属光学薄膜材料领域。本发明采用溶胶-凝胶技术，用有机模板进行复合掺杂，通过不同条件热处理选择性地去除有机模板，形成纳米多孔减反增透薄膜，并可进行孔隙率调节。本发明制备的薄膜厚度控制在20-2500nm范围，薄膜的折射率控制在1.10-2.50范围，消光系数控制在0.0-0.1范围内。

主权项

有机模板掺杂制备孔隙率可调控纳米多孔减反增透薄膜的方法，其特征在于采用溶胶‑凝胶技术，用有机模板进行复合掺杂，通过不同条件热处理选择性地去除有机模板，形成纳米多孔减反增透薄膜结构，并可进行孔隙率调节；具体步骤是：(1)有机模板的掺杂：将分子量为1000‑50,000的有机模板加入前驱溶胶中，在室温条件下连续搅拌，得到掺杂的复合前驱溶胶；(2)有机模板掺杂的薄膜制备：将清洗后、干净的基片通过提拉镀膜技术竖直、匀速或旋涂镀膜技术从步骤1制备的掺杂的复合前驱溶胶中根据不同需要制备不同层数的薄膜；(3)有机模板的去除：将制备的掺杂薄膜置于烘箱中，在100‑800℃的条件固化2小时以上，自然冷却后即可得到孔隙率可调节的纳米多孔减反增透薄膜。