[发明专利]有机模板掺杂制备孔隙率可调控纳米多孔减反增透薄膜的方法

权利要求书

1.有机模板掺杂制备孔隙率可调控纳米多孔减反增透薄膜的方法，其特征在于采用溶胶-凝胶技术，用有机模板进行复合掺杂，通过不同条件热处理选择性地去除有机模板，形成纳米多孔减反增透薄膜结构，并可进行孔隙率调节；具体步骤是：

(1)有机模板的掺杂：

将分子量为1000-50,000的有机模板加入前驱溶胶中，在室温条件下连续搅拌，得到掺杂的复合前驱溶胶；

(2)有机模板掺杂的薄膜制备：

将清洗后、干净的基片通过提拉镀膜技术竖直、匀速或旋涂镀膜技术从步骤1制备的掺杂的复合前驱溶胶中根据不同需要制备不同层数的薄膜；

(3)有机模板的去除：

将制备的掺杂薄膜置于烘箱中，在100-800℃的条件固化2小时以上，自然冷却后即可得到孔隙率可调节的纳米多孔减反增透薄膜。

2.按权利要求1所述的方法，其特征在于选用的基片为普通玻璃、石英玻璃或透明导电材料。

3.按权利要求1所述的方法，其特征在于前驱溶胶为TiO₂，SiO₂，ZrO₂或ZnO。

4.按权利要求1所述的方法，其特征在于提拉镀膜的速度控制在10-200mm/min范围内，旋涂镀膜的速度控制在1000-20000r/min范围内。

5.按权利要求1所述的方法，其特征在于分子量控制在1000-50000范围内的有机模板为聚乙烯吡咯烷酮或聚乙二醇。

6.按权利要求1所述的方法，其特征在于薄膜厚度控制在20-2500nm范围内的薄膜折射率控制在1.10-2.50范围内，消光系数控制在0.0-0.1范围内。

7.按权利要求1或6所述的方法，其特征在于制备的薄膜层厚度h与提拉速度V成正比，介于hαV^1/2和hαV^3/2之间。

8.按权利要求1所述的方法，其特征在于所制备的SiO₂多孔薄膜在太阳光550nm处透过率可达99.4％，反射率低于0.9％，现实良好的宽带增透性。