[发明专利]一种检测膜层应力的方法有效
| 申请号： | 201010568450.2 | 申请日： | 2010-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN102486444A | 公开（公告）日： | 2012-06-06 |
| 发明（设计）人： | 周鸣 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01N3/00 | 分类号： | G01N3/00;H01L21/20 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 牛峥;王丽琴 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种检测膜层应力的方法，该方法包括：A、在所提供的膜层上沉积设定压力的金属层，得到检测结构；B、在膜层的布线方向对该检测结构进行裂片，采用扫描电子显微镜检测该裂片；C、确定该裂片中膜层的弯曲度为设定的弯曲度范围时，将所设定的压力作为该膜层的应力。该方法在检测膜层应力的过程中，比较简单且检测准确。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 检测 应力 方法 | ||
【主权项】：
一种检测膜层应力的方法，该方法包括：A、在所提供的膜层上沉积设定压力的金属层，得到检测结构；B、在膜层的布线方向对该检测结构进行裂片，采用扫描电子显微镜检测该裂片；C、确定该裂片中膜层的弯曲度为设定的弯曲度范围时，将所设定的压力作为该膜层的应力。
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