[发明专利]一种含氧氯化物熔盐体系的惰性阳极无效
申请号: | 201010567840.8 | 申请日: | 2010-12-01 |
公开(公告)号: | CN102051641A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 汪的华;尹华意;朱华;甘复兴 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | C25C7/02 | 分类号: | C25C7/02;C25C3/02;C25C3/04 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 张火春 |
地址: | 430072*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种含氧氯化物熔盐体系的惰性阳极,包括基体金属和厚度为5-60μm的金属钌或钌合金涂层,所述钌合金涂层中,钌含量高于50wt%。基体金属和涂层之间含有由钽、铌、钼、钨或它们的合金组成的中间层,可以进一步提高阳极的稳定性。本发明的含钌或钌合金涂层的惰性阳极具有高稳定性、高导电性、高催化活性、贵金属用量少、抗热震性和易于加工的特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 氯化物 体系 惰性 阳极 | ||
【主权项】:
一种含氧氯化物熔盐体系的惰性阳极,其特征在于,其包括基体金属和厚度为5‑60μm的金属钌或钌合金涂层,所述钌合金涂层中,钌含量高于50wt%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学,未经武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010567840.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:影像插补处理装置及其方法
- 下一篇:分配控制信道单元资源的方法及装置