[发明专利]一种化学机械抛光清洗液有效
| 申请号： | 201010564192.0 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102477359A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于3D封装的TSV硅抛光的化学机械抛光清洗液，该化学机械抛光清洗液包括一种或多种有机酸，一种或多种含氮化合物和水。本发明的化学机械抛光清洗液是可以在碱性条件下有效清洗硅衬底的新型的清洗液，显著提高3D封装中的TSV硅抛光的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 清洗 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光清洗液，其包含：a)有机酸，b)含氮化合物，c)水。
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