[发明专利]一种化学机械抛光清洗液有效
| 申请号： | 201010564192.0 | 申请日： | 2010-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN102477359A | 公开（公告）日： | 2012-05-30 |
| 发明（设计）人： | 徐春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/26 | 分类号： | C11D7/26;C11D7/32;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 清洗 | ||
1.一种化学机械抛光清洗液，其包含：
a)有机酸，
b)含氮化合物，
c)水。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述有机酸的浓度为1～10wt％。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述含氮化合物的浓度为0.01～10wt％。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述水为去离子水。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述水为余量。
6.如权利要求1或2所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述有机酸选自氨基酸、柠檬酸、柠檬酸氢胺、柠檬酸氢二胺和乙二胺四乙酸中的一种或几种。
7.如权利要求1或3所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述含氮化合物为含-NH结构的胺类化合物。
8.如权利要求7所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述胺类化合物为唑类，胍类和/或亚胺。
9.如权利要求8所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述胺类化合物选自1，2，4-三氮唑、5-氨基四氮唑、盐酸双胍、聚亚酰胺和3-氨基四氮唑中的一种或几种。
10.如权利要求1所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述清洗液的pH值为8.0～12.0。
11.如权利要求10所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述清洗液的pH值为9.5～11.5。
12.如权利要求1或10所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述清洗液还包含pH调节剂。
13.如权利要求12所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述pH调节剂为碱。
14.如权利要求13所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述碱选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、氨水、氢氧化钾、乙醇胺和三乙醇胺中的一种或几种。
15.如权利要求1所述的化学机械抛光清洗液，其特征在于：所述清洗液还包括表面活性剂，稳定剂，抑制剂和/或杀菌剂。
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