[发明专利]在柔性衬底上沉积半导体薄膜用装置

摘要

本发明涉及在柔性衬底上沉积半导体薄膜用装置，包括反应槽、反应溶液和卷状柔性衬底，靠近反应槽内壁的反应槽底面上垂直固装有两个卷轴；两个卷轴之间的柔性衬底面绕装于全部固定轴，构成端面为蛇形状的柔性衬底。本发明将柔性衬底绕成端面为蛇形状的固定轴，由电机带动卷轴，将柔性衬底在反应溶液中经过蛇状移动从一个卷轴转到另一个转轴，使得尽量长距离的衬底放置在反应槽中，有效的增加了衬底的沉积面积，反应溶液得到了充分利用，使得柔性衬底在反应溶液中充分沉积形成均匀性良好半导体薄膜，并且装置的结构简单，制造成本低、具有大规模生产的特点。

主权项

在柔性衬底上沉积半导体薄膜用装置，包括反应槽、反应槽中的反应溶液和卷状柔性衬底，其特征在于：靠近反应槽内壁的反应槽底面上垂直固装有两个卷轴，其中一个卷轴上同轴固装有电机，反应槽内的底面上还垂直固装有不在同一条直线上、并且长度大于卷状柔性衬底宽度，至少三个以上的固定轴；卷状柔性衬底套装于未装有电机的卷轴上，卷状柔性衬底的外端头固装于带有电机的卷轴上，两个卷轴之间的柔性衬底面绕装于全部固定轴，构成端面为蛇形状的柔性衬底。