[发明专利]采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法

摘要

采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法，属于高分子光致抗蚀材料的技术领域。本发明采用溶胶-凝胶法制得纳米二氧化硅溶胶，再用含双键的硅烷偶联剂为主要原料对其表面进行原位接枝改性，得到光敏纳米二氧化硅，并将其添加到紫外光固化碱溶性预聚物中，通过光敏纳米二氧化硅表面的双键与紫外光固化碱溶性预聚物中的双键相互作用，得到光敏纳米二氧化硅改性的光致抗蚀材料。本发明对光致抗蚀材料进行改性制备之后，可以使其感光敏感性能、尺寸热稳定性能明显提高。经过本发明改性的光致抗蚀材料可应用于印刷线路板抗蚀刻、成像油墨、液晶显示器彩色滤光片等领域。

主权项

一种采用光敏纳米二氧化硅对光致抗蚀材料进行改性制备的方法，其特征在于制备步骤如下：(1)光敏纳米二氧化硅酯类溶液的制备：将乙醇、蒸馏水、氨水混合均匀，于45～55℃下搅拌滴加正硅酸酯，恒温反应22～26h，得到纳米二氧化硅溶胶I；将含双键的硅烷偶联剂按配比滴加到纳米二氧化硅溶胶I中，45～55℃反应3～5h，得到光敏纳米二氧化硅溶胶II；将光敏纳米二氧化硅溶胶II与酯类溶剂混合，于25～35℃真空旋转蒸发，除去乙醇及氨气，得到光敏纳米二氧化硅酯类溶液；其中乙醇∶蒸馏水∶氨水∶正硅酸酯∶硅烷偶联剂的摩尔比＝15～20∶8～12∶0.1～0.3∶1∶4～6，酯类溶剂与乙醇的摩尔比＝1～1.2∶1，(2)光致抗蚀材料的改性制备：按重量比将3～6％光引发体系、0.05～0.15％阻聚剂充分溶于6～15％的活性稀释剂中，再添加1～5％的颜料，然后加入65～85％的光敏碱溶性预聚物，最后添加3.8～12％由步骤(1)制得的光敏纳米二氧化硅酯类溶液，室温下搅拌均匀。