[发明专利]抗还原性的多层陶瓷电容介质陶瓷材料无效

专利信息
申请号: 201010530760.5 申请日: 2010-11-04
公开(公告)号: CN102020465A 公开(公告)日: 2011-04-20
发明(设计)人: 赵中友;蓝建明;资美勇;陈运姣;黄敏;杨锋 申请(专利权)人: 仙桃市中星电子材料有限公司;广州聚友瓷研电子科技有限公司
主分类号: C04B35/468 分类号: C04B35/468;H01G4/12;H01G4/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 433000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种抗还原性的多层陶瓷电容介质陶瓷材料,包括主成份BamTiO3,辅助成份MnO2、Mg0、CaO、R12O3、R22O3和Re烧结助剂,其中R1选自Gd、Tb、Dy中至少一种;R2选自Y、Sm、Ho、Er、Yb中至少一种;Re烧结助剂选自B2O3、ZnO、SiO2、Al2O3、K2O、Li2O中至少一种;该介质陶瓷材料适用于生产额定电压大于100V的中高压多层陶瓷电容器,其室温介电常数可以控制在2500~3500之间,静电容量的温度特性好、材料均匀性好,并且具有产品成本低,高绝缘电阻率,绝缘电阻的加速寿命高,耐电压高,可靠性能好等特点。完全满足EIA标准X7R的性能要求。
搜索关键词: 原性 多层 陶瓷 电容 介质 陶瓷材料
【主权项】:
一种抗还原性的多层陶瓷电容介质陶瓷材料,其特征是该介质陶瓷材料包括主成份BamTiO3,辅助成份MnO2、Mg0、CaO、R12O3、R22O3和Re烧结助剂,其中R1选自Gd、Tb、Dy中至少一种;R2选自Y、Sm、Ho、Er、Yb中至少一种;Re烧结助剂选自B2O3、ZnO、SiO2、Al2O3、K2O、Li2O中至少一种;所述介质陶瓷材料满足下列关系:100BamTiO3 +aMnO2+bMg0+cR12O3 +dR22O3+eRe,其中以摩尔计:0.99≤m≤1.01,0.02≤a≤1.5,0.2≤b≤2.5,0.05≤c≤1.5,0.05≤d≤1.5,0.2≤e≤3.5。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于仙桃市中星电子材料有限公司;广州聚友瓷研电子科技有限公司,未经仙桃市中星电子材料有限公司;广州聚友瓷研电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010530760.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top