[发明专利]基于碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构的气敏传感器元件的制备方法有效
申请号: | 201010517073.X | 申请日: | 2010-10-24 |
公开(公告)号: | CN101973510A | 公开(公告)日: | 2011-02-16 |
发明(设计)人: | 秦玉香;沈万江;胡明;包智颖;李晓 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | B81C1/00 | 分类号: | B81C1/00;G01N27/00 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 曹玉平 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构的气敏传感器元件的制备方法,步骤为:(1)模板的清洗;(2)多孔氧化钨薄膜的制备;(3)以多孔氧化钨薄膜结构作为阴极,电泳沉积碳纳米管薄膜,制备碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构薄膜;(4)沉积铂点电极,形成气敏传感器元件。本发明的基于碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构的气敏传感器元件结构新颖、制备过程简单、尤其对于低浓度气体的室温探测灵敏度高。 | ||
搜索关键词: | 基于 纳米 阵列 氧化钨 复合 结构 传感器 元件 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种基于碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构的气敏传感器无件的制备方法,具有如下步骤:(1)模板的清洗:将多孔氧化铝模板用丙酮溶剂浸泡30分钟取出,再放入无水乙醇中超声清洗5分钟,烘干备用;(2)多孔氧化钨薄膜的制备:将洁净的模板置于超高真空对靶磁控溅射设备的真空室,采用质量纯度为99.9%的金属钨作为靶材,以质量纯度为99.999%的氩气作为工作气体,质量纯度为99.999%的氧气作为反应气体在步骤(1)备用的多孔氧化铝模板之上溅射沉积多孔氧化钨薄膜;(3)碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构的制备:a)以步骤(2)沉积得到的多孔模板/多孔氧化钨薄膜结构作为阴极,电泳沉积碳纳米管薄膜,所述电泳沉积工艺:电泳电压为30~100V,电泳时间为0.5~10min,阴极与阳极的间距为1~5cm,电泳液预沉降时间30min~2h,电泳液预超声分散时间1~2h;电泳液使用水、异丙醇和正丁醇中的任意一种作为分散剂;电泳时的阳极可以是铜电极、铝电极、不锈钢电极中的任意一种;碳纳米管为单壁或多壁碳管,在使用前预研磨1h;b)除去沉积在多孔氧化钨薄膜表面的多余碳纳米管,空气中放置10min,60℃干燥1h;c)在程序烧结炉中于400‑600℃空气气氛热处理3‑4小时,控制升温速率小于2.5°/min,制得碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构薄膜。(4)基于碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构的气敏传感器元件的制备:利用射频磁控溅射法在步骤(3)中获得的碳纳米管微阵列/氧化钨纳米复合结构薄膜表面沉积铂点电极,形成气敏传感器元件。
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