[发明专利]一种晶体硅太阳能电池的选择性扩散工艺无效

专利信息
申请号: 201010516839.2 申请日: 2010-10-25
公开(公告)号: CN101997060A 公开(公告)日: 2011-03-30
发明(设计)人: 程亮;刘鹏;姜言森;李玉花;徐振华;张春燕;任现坤;王兆光;杨青天 申请(专利权)人: 山东力诺太阳能电力股份有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 济南舜源专利事务所有限公司 37205 代理人: 宋玉霞
地址: 山东省济南市经十东路3076*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于晶硅太阳能电池的制作领域,具体涉及一种晶体硅太阳能电池的选择性扩散工艺。该发明采用在印刷区域镭射掺杂的方法,实现选择性发射极太阳能电池的制备,其工序包括,高方阻扩散,印刷区域镭射掺杂,磷硅玻璃去除,在进行激光镭射前不需要喷涂或旋涂任何磷源,能降低选择性发射极晶体硅太阳能电池制作的成本。与其他选择性扩散工艺相比,具有工艺简单,成本低,易于工业化生产的特点。
搜索关键词: 一种 晶体 太阳能电池 选择性 扩散 工艺
【主权项】:
一种晶体硅太阳能电池的选择性扩散工艺,其特征在于,包含以下工艺步骤:高方阻扩散,印刷区域镭射掺杂,磷硅玻璃去除。
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