[发明专利]显影装置和显影方法

摘要

本发明提供一种显影装置和显影方法，即使基板表面的防水性高，也能在基板整个表面形成显影膜，能降低显影缺陷。在进行晶圆(W)的显影处理之前，作为前工序，从纯水喷嘴(40)向晶圆(W)的中央部喷出用于使显影液在晶圆(W)表面容易扩展的作为扩散辅助液的纯水而形成积液。接着，一边使晶圆W高速旋转，一边向晶圆(W)的中央部喷出用于预湿的显影液，并使该显影液扩展。抗蚀剂被该显影液溶解而溶出溶解物(6)，但是在该溶解物(6)溶出的期间例如7秒以内使晶圆(W)的旋转为反转，使溶解物(6)在晶圆(W)整个表面扩展，使晶圆(W)的防水性降低。之后，对旋转着的晶圆(W)喷出显影液，使显影液在晶圆(W)表面扩展。

主权项

一种显影装置，其是对形成有抗蚀剂膜、并被曝光后的基板供给显影液而进行显影的显影装置，其特征在于，包括：基板保持部，其用于水平地保持基板；旋转机构，其用于使该基板保持部绕铅垂轴线旋转；扩散辅助液喷嘴，其向基板供给对上述抗蚀剂膜没有显影作用、用于辅助显影液扩散的扩散辅助液；显影液喷嘴，其用于向基板供给显影液；控制部，其输出控制信号以执行以下的步骤：为了在保持于上述基板保持部的基板的中央部形成上述扩散辅助液的积液、从上述扩散辅助液喷嘴向基板的中心部喷出扩散辅助液的步骤；接着，为了使显影液在基板整个表面扩展、并从抗蚀剂膜产生溶解物、一边利用上述旋转机构使基板正转、一边从显影液喷嘴向基板的中心部喷出显影液的步骤；之后，利用上述旋转机构使基板反转的步骤；之后，从显影液喷嘴向基板喷出显影液来对抗蚀剂膜进行显影的步骤。