[发明专利]显影装置和显影方法

权利要求书

1.一种显影装置，其是对形成有抗蚀剂膜、并被曝光后的基板供给显影液而进行显影的显影装置，其特征在于，包括：

基板保持部，其用于水平地保持基板；

旋转机构，其用于使该基板保持部绕铅垂轴线旋转；

扩散辅助液喷嘴，其向基板供给对上述抗蚀剂膜没有显影作用、用于辅助显影液扩散的扩散辅助液；

显影液喷嘴，其用于向基板供给显影液；

控制部，其输出控制信号以执行以下的步骤：为了在保持于上述基板保持部的基板的中央部形成上述扩散辅助液的积液、从上述扩散辅助液喷嘴向基板的中心部喷出扩散辅助液的步骤；接着，为了使显影液在基板整个表面扩展、并从抗蚀剂膜产生溶解物、一边利用上述旋转机构使基板正转、一边从显影液喷嘴向基板的中心部喷出显影液的步骤；之后，利用上述旋转机构使基板反转的步骤；之后，从显影液喷嘴向基板喷出显影液来对抗蚀剂膜进行显影的步骤。

2.根据权利要求1所述的显影装置，其特征在于，

上述扩散辅助液是纯水。

3.根据权利要求1或2所述的显影装置，其特征在于，

在从一边使基板正转一边向基板的中心部开始喷出显影液的时刻起7秒以内进行使上述基板反转的步骤。

4.根据权利要求1～3任一项所述的显影装置，其特征在于，

在使基板反转时，从显影液喷嘴向基板的中心部喷出显影液。

5.根据权利要求4所述的显影装置，其特征在于，

在将基板从正转向反转切换时，停止喷出显影液。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的显影装置，其特征在于，

在使基板旋转的状态下通过一边从显影液喷嘴喷出显影液一边使显影液的喷出位置从基板的周缘部向基板的中心部移动来进行上述显影的步骤。

7.一种显影方法，其是对形成有抗蚀剂膜、并被曝光后的基板供给显影液而进行显影的显影方法，其特征在于，包括：

将基板水平地保持在基板保持部的步骤；

从扩散辅助液喷嘴向保持于上述基板保持部的基板的中心部喷出对上述抗蚀剂膜没有显影作用的扩散辅助液、在基板的中央部形成用于辅助显影液的扩散的扩散辅助液的积液的步骤；

接着，为了使显影液在基板整个表面扩展、并从抗蚀剂膜产生溶解物、一边利用旋转机构使基板正转、一边从显影液喷嘴向基板的中心部喷出显影液的步骤；

之后，利用上述旋转机构使基板反转的步骤；

之后，从显影液喷嘴向基板喷出显影液来对抗蚀剂膜进行显影的步骤。

8.根据权利要求5所述的显影方法，其特征在于，

上述扩散辅助液是纯水。

9.根据权利要求7或8所述的显影方法，其特征在于，

在从显影液喷嘴向基板的中心部开始喷出显影液的时刻起7秒以内进行使上述基板反转的步骤。

10.根据权利要求7～9任一项所述的显影方法，其特征在于，

在使上述基板反转时，从显影液喷嘴向基板的中心部喷出显影液。

11.根据权利要求10所述的显影方法，其特征在于，

在将基板从正转向反转切换时，停止喷出显影液。