[发明专利]光学写入设备有效

专利信息
申请号: 201010510332.6 申请日: 2010-10-14
公开(公告)号: CN102043282A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 三村广二 申请(专利权)人: NEC液晶技术株式会社
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;穆德骏
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种光学写入设备。一种将要被记录的图像光输出到显示记录介质的光学写入设备。其光学元件包括二维周期结构体,该二维周期结构体包括沿着与以重复方式交替地布置透明层和光吸收层的方向正交的方向分划的周期结构部分。该周期结构部分的至少一部分具有如此周期结构,即,其中通过改变在正交的方向上相邻的透明层的空间频率的相位而交替地布置透明层和光吸收层。透明层和光吸收层在二维周期结构体的两个正交方向的重复周期节距被设为相互匹配,并且该重复周期节距被设为比空间光调制元件的像素的布局节距更窄。
搜索关键词: 光学 写入 设备
【主权项】:
一种光学写入设备,其用于将要被记录的图像光输出到显示记录介质,该光学写入设备包括:空间光调制元件,在所述空间光调制元件中,在平面内以矩阵布置多个像素,所述多个像素将从表面型光源部分发射的成像光空间调制成图像光,和光学元件,所述光学元件通过限制从所述空间光调制元件发射的所述图像光的发射角度范围而允许所述图像光入射在所述显示记录介质上,其中:所述光学元件包括二维周期结构体,在所述二维周期结构体中,以重复方式在平面内交替地布置透射所述图像光的透明层和限制透射过所述透明层的所述图像光的发射方向的范围的光吸收层;所述二维周期结构体在沿着与以重复方式交替地布置所述透明层和所述光吸收层的方向正交的方向上包括多个周期结构部分;所述多个周期结构部分的至少一部分具有如此的周期结构,即,在该周期结构中,通过改变在所述正交的方向上彼此相邻的所述透明层的空间频率的相位而以重复方式交替地布置所述透明层和所述光吸收层;并且所述透明层和所述光吸收层在所述二维周期结构体的两个正交方向上的重复周期节距被设为相互匹配,并且所述重复周期节距被设为比所述空间光调制元件的像素的布局节距更窄。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于NEC液晶技术株式会社,未经NEC液晶技术株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010510332.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top