[发明专利]光学写入设备有效

专利信息
申请号: 201010510332.6 申请日: 2010-10-14
公开(公告)号: CN102043282A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 三村广二 申请(专利权)人: NEC液晶技术株式会社
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;穆德骏
地址: 日本神奈*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光学 写入 设备
【权利要求书】:

1.一种光学写入设备,其用于将要被记录的图像光输出到显示记录介质,该光学写入设备包括:

空间光调制元件,在所述空间光调制元件中,在平面内以矩阵布置多个像素,所述多个像素将从表面型光源部分发射的成像光空间调制成图像光,和

光学元件,所述光学元件通过限制从所述空间光调制元件发射的所述图像光的发射角度范围而允许所述图像光入射在所述显示记录介质上,其中:

所述光学元件包括二维周期结构体,在所述二维周期结构体中,以重复方式在平面内交替地布置透射所述图像光的透明层和限制透射过所述透明层的所述图像光的发射方向的范围的光吸收层;

所述二维周期结构体在沿着与以重复方式交替地布置所述透明层和所述光吸收层的方向正交的方向上包括多个周期结构部分;

所述多个周期结构部分的至少一部分具有如此的周期结构,即,在该周期结构中,通过改变在所述正交的方向上彼此相邻的所述透明层的空间频率的相位而以重复方式交替地布置所述透明层和所述光吸收层;并且

所述透明层和所述光吸收层在所述二维周期结构体的两个正交方向上的重复周期节距被设为相互匹配,并且所述重复周期节距被设为比所述空间光调制元件的像素的布局节距更窄。

2.根据权利要求1的光学写入设备,其中

所述多个周期结构部分的至少一部分包括如此的周期结构,即,在该周期结构中,通过将所述透明层的空间频率的相位改变180度而以重复方式交替地布置所述透明层和所述光吸收层。

3.根据权利要求1的光学写入设备,其中

所述重复周期节距被设为是在所述空间光调制元件的平面内布置所述像素的周期节距的整约数。

4.根据权利要求1的光学写入设备,其中

所述空间光调制元件的所述多个像素中的每一个像素形成具有短边和长边的矩形形状,并且在平面内以有序方式按照栅格状图案布置所述多个像素。

5.根据权利要求1的光学写入设备,其中

所述空间光调制元件的所述多个像素中的每一个像素形成正方形形状,并且通过改变在平面内在所述正交的方向上彼此相邻的像素的空间频率的相位来布置所述多个像素。

6.根据权利要求5的光学写入设备,其中

所述相邻像素的空间频率的相位被设为相差180度。

7.一种光学写入设备,其用于将要被记录的图像光输出到显示记录介质,该光学写入设备包括:

空间光调制元件,在所述空间光调制元件中,在平面内以矩阵布置多个像素,所述多个像素将从表面型光源部分发射的成像光空间调制成图像光,和

光学装置,所述光学装置通过限制从所述空间光调制元件发射的所述图像光的发射角度范围而允许所述图像光入射在所述显示记录介质上,其中:

所述光学元件包括二维周期结构体,在所述二维周期结构体中,以重复方式在平面内交替地布置透射所述图像光的透明层和限制透射过所述透明层的所述图像光的发射方向的范围的光吸收层;

所述二维周期结构体在沿着与以重复方式交替地布置所述透明层和所述光吸收层的方向正交的方向上包括多个周期结构部分;

所述多个周期结构部分的至少一部分具有如此的周期结构,即,在该周期结构中,通过改变在所述正交的方向上彼此相邻的所述透明层的空间频率的相位而以重复方式交替地布置所述透明层和所述光吸收层;并且

所述透明层和所述光吸收层在所述二维周期结构体的两个正交方向上的重复周期节距被设为相互匹配,并且所述重复周期节距被设为比所述空间光调制元件的像素的布局节距更窄。

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