[发明专利]光发射装置与应用它的发光二极管打印头无效
| 申请号: | 201010503547.5 | 申请日: | 2010-10-12 |
| 公开(公告)号: | CN102447037A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
| 发明(设计)人: | 吴明哲 | 申请(专利权)人: | 环旭电子股份有限公司;环鸿科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/48 | 分类号: | H01L33/48;H01L33/58;H01L33/60;F21V5/04;F21V7/00;B41J2/45;F21Y101/02 |
| 代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 薛琦;朱水平 |
| 地址: | 201203 上海市张江高*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明公开了一种光发射装置与应用它的发光二极管打印头,光发射装置包括一硅光学平台、一自聚焦透镜阵列、一上壳体与一光源。自聚焦透镜阵列设置于硅光学平台的一凹槽中,此凹槽具有第一反射面、一底部与一第二反侧面,第一反射面与一第二反侧面分别位于底部的两侧并形成一凹槽开口,其中所述凹槽开口的宽度大于所述底部的宽度。上壳体用以覆盖凹槽开口并具有一对应于第二反射面的透光区。光源则对应于第一反射面。此光发射装置的机构可利用迭加的方式来组装,借此提高组装精度与简化组装过程。 | ||
| 搜索关键词: | 发射 装置 应用 发光二极管 打印头 | ||
【主权项】:
一种光发射装置,其特征在于,所述光发射装置包括:硅光学平台,具有凹槽,所述凹槽具有第一反射面、底部与第二反射面,所述第一反射面与所述第二反射面分别位于所述底部的两侧并形成凹槽开口,其中所述凹槽开口的宽度大于所述底部的宽度;自聚焦透镜阵列,设置于所述底部上并位于所述第一反射面与所述第二反射面之间;上壳体,用以覆盖所述凹槽开口,所述上壳体具有透光区,所述透光区对应于所述第二反射面;以及至少一光源,设置于所述上壳体的内侧面上并对应于所述第一反射面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于环旭电子股份有限公司;环鸿科技股份有限公司,未经环旭电子股份有限公司;环鸿科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010503547.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种金属板带处理方法
- 下一篇:直缝机装置





