[发明专利]供体基板和显示器制造方法无效
申请号: | 201010502595.2 | 申请日: | 2009-06-25 |
公开(公告)号: | CN102034938A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 肥后智之;松尾圭介 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/00 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 陈桂香;武玉琴 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了在形成发光层时使用的供体基板以及使用该供体基板制造显示器的方法。所述供体基板包括:基体;布置在所述基体上的光热转换层,所述光热转换层与所述被转印基板上要形成所述发光层的区域相对应;形成在所述光热转换层和所述基体上的隔热层;凸起结构,所述凸起结构被布置在所述隔热层上且位于各个所述光热转换层之间的区域中;以及防污染层,所述防污染层包括形成在所述凸起结构的顶面上的第一部分和形成在所述隔热层的顶面上的第二部分,所述第一部分和第二部分彼此分开。本发明降低了所述转印层中不需要的范围被转印的风险,并以高精度转印所需要的范围。 | ||
搜索关键词: | 供体 显示器 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种在形成发光层时使用的供体基板,所述发光层是通过如下步骤形成的:形成含有发光材料的转印层,使所述转印层和被转印基板相互面对且照射辐射线,并且使所述转印层升华或气化从而将所述转印层转印至所述被转印基板上,所述供体基板包括:基体;布置在所述基体上的光热转换层,所述光热转换层与所述被转印基板上要形成所述发光层的区域相对应;形成在所述光热转换层和所述基体上的隔热层;凸起结构,所述凸起结构被布置在所述隔热层上且位于各个所述光热转换层之间的区域中;以及防污染层,所述防污染层包括形成在所述凸起结构的顶面上的第一部分和形成在所述隔热层的顶面上的第二部分,并且所述第一部分和所述第二部分彼此分开。
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