[发明专利]一种用于纳米压印光刻系统的两平动精密定位工作台

摘要

本发明公开了一种用于纳米压印光刻系统的二自由度精密定位工作台，它包括基座、动平台、连接在基座底部的刚性支架以及连接在动平台和基座之间的四个柔性支链，结构中采用四个压电陶瓷驱动器，每个驱动器尾部通过螺栓与基座相连，顶端通过螺纹连接球形接头实现赫兹接触。二个位置传感器用来测量动平台的实际输出，分别固定于刚性支架和动平台之间。本精密定位工作台具有分辨率高、动态响应速度快的特点，可作为纳米压印光刻定位系统的辅助定位平台，实现微量进给和精密定位。

主权项

一种用于纳米压印光刻系统的两平动精密定位工作台，其特征在于：它包括基座、设置在所述的基座中间的动平台、连接在所述的基座底部的一个刚性支架以及连接在所述的动平台和基座之间的四个柔性支链，以所述的动平台的两个对称轴为中心线，所述的四个柔性支链分别上下和左右对称的设置在所述的动平台四周，每一所述的柔性支链包括一个移动块和对称的连接在所述的移动块左右两侧的两个柔性板簧结构，每一所述的板簧结构由四个一字形柔性板簧构成，所述的四个一字形柔性板簧两两并联设置形成两个U形柔性结构，所述的两个U形柔性结构的U形底部通过刚性连接板相连而每个U形的两个顶部则分别与所述的移动块和基座相连，在所述的移动块的前壁和与所述的移动块的前壁相对的动平台侧壁之间连接有两个相互平行以并联形式设置的一字形柔性板簧，四个压电陶瓷驱动器分别水平放置，每个驱动器尾部均由螺栓固联于基座上并且前端通过螺纹连接有球形接头，所述的球形接头顶在移动块上，二个位置传感器的导电片分别连接在刚性支架的上平面和动平台的下平面上，连接于刚性支架的上平面的两个导电片中的一个导电片的对称轴与刚性支架上平面的上下边缘中线重合，另一个导电片的对称轴与刚性支架上平面的左右边缘中线重合，连接于动平台下平面的两个导电片与刚性支架上的两个导电片位置相对平行设置。