[发明专利]一种用于纳米压印光刻系统的两平动精密定位工作台

权利要求书

1.一种用于纳米压印光刻系统的两平动精密定位工作台，其特征在于：它 包括基座、设置在所述的基座中间的动平台、连接在所述的基座底部的一个刚性 支架以及连接在所述的动平台和基座之间的四个柔性支链，所述的四个柔性支链 以所述的动平台的两个对称轴为中心线，所述的四个柔性支链沿所述动平台四个 边缘分布在所述的动平台四周，并且分布于所述动平台左右边缘的两个柔性支链 相对于所述动平台的竖直对称轴左右对称，分布于所述动平台上下边缘的两个柔 性支链相对于所述动平台的水平对称轴上下对称，每一所述的柔性支链包括一个 移动块和对称的连接在所述的移动块左右两侧的两个柔性板簧结构，每一所述的 板簧结构由四个一字形柔性板簧构成，所述的四个一字形柔性板簧两两并联设置 形成两个U形柔性结构，所述的两个U形柔性结构的U形底部通过刚性连接板相 连而每个U形的两个顶部则分别与所述的移动块和基座相连，在所述的移动块的 前壁和与所述的移动块的前壁相对的动平台侧壁之间连接有两个相互平行以并 联形式设置的一字形柔性板簧，四个压电陶瓷驱动器分别水平放置，每个驱动器 尾部均由螺栓固联于基座上并且前端通过螺纹连接有球形接头，所述的球形接头 顶在移动块上，二个位置传感器的导电片分别连接在刚性支架的上平面和动平台 的下平面上，连接于刚性支架的上平面的两个导电片中的一个导电片的对称轴与 刚性支架上平面的上下边缘中线重合，另一个导电片的对称轴与刚性支架上平面 的左右边缘中线重合，连接于动平台下平面的两个导电片与刚性支架上的两个导 电片位置相对平行设置。

2.根据权利要求1所述的用于纳米压印光刻系统的二平动精密定位工作台， 其特征在于：它还包括一个计算机，所述的计算机用于输出电压信号给四个压电 陶瓷驱动器，读取所述的二个位置传感器输出的位移信号并与计算机中的设定值 比较后输出位移补偿电压控制信号给所述的四个压电陶瓷驱动器。