[发明专利]半导体发光二极管无效
| 申请号: | 201010297835.X | 申请日: | 2010-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN102420280A | 公开(公告)日: | 2012-04-18 |
| 发明(设计)人: | 彭晖;闫春辉;柯志杰 | 申请(专利权)人: | 亚威朗光电(中国)有限公司 |
| 主分类号: | H01L33/20 | 分类号: | H01L33/20;H01L33/22 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 314305 浙江省海*** | 国省代码: | 浙江;33 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明提供一种半导体发光二极管,包括,生长衬底、半导体外延层、电流扩展层、绝缘层、电极;其中,电极包括金属电极和打线焊盘,金属电极和打线焊盘电连接;半导体外延层形成在生长衬底上,电流扩展层形成在半导体外延层上;在电流扩展层的预定部分上,形成微结构,绝缘层形成在该微结构上,打线焊盘形成在绝缘层上,金属电极形成在电流扩展层上。绝缘层的形状和尺寸与打线焊盘基本上相同。绝缘层的表面具有微结构,打线焊盘形成在该微结构上。在电流扩展层的预定部分上,形成微结构,金属电极形成在电流扩展层的具有微结构的部分上。在半导体外延层的预定位置上,形成微结构,一电流阻挡层形成在该微结构上。电流阻挡层的表面上,形成微结构。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体 发光二极管 | ||
【主权项】:
一种半导体发光二极管,其特征在于,所述的半导体发光二极管包括,生长衬底、半导体外延层、电流扩展层、绝缘层、电极;其中,电极包括金属电极和打线焊盘;所述的半导体外延层形成在所述的生长衬底上,所述的电流扩展层形成在所述的半导体外延层上;其特征在于,在所述的电流扩展层的预定部分上,形成微结构,所述的绝缘层形成在所述的电流扩展层的具有所述的微结构的部分上;所述的金属电极和所述的打线焊盘电连接,所述的打线焊盘形成在所述的绝缘层上,所述的金属电极形成在所述的电流扩展层上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于亚威朗光电(中国)有限公司,未经亚威朗光电(中国)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201010297835.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:新型节能空压机活塞环组
- 下一篇:电介质波导管缝隙天线





