[发明专利]化学增幅型高分辨率含硅I-线紫外光刻胶及其成膜树脂

摘要

一种含硅共聚物成膜树脂，由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，溶剂中进行共聚合反应制备而成，其特征在于：所述成膜树脂的分子量为4000～100000，分子量分布为1.4～2.8；所述共聚单体主要为40％～90％的取代苯乙烯、0.5％～20％的含硅丙烯酸酯类偶联剂以及5％～60％的含酸敏基团单体。本发明在以聚对羟基苯乙烯为基础的成膜树脂配方中引入了可以与之共聚合的含硅的丙烯酸酯类偶联剂，进行共聚合制备成一类新的成膜树脂。这种新的成膜树脂由于含硅丙烯酸酯类偶联剂单元的作用，增加了光刻胶与硅片之间的粘结性能，同时也改善了抗刻蚀的性能。

主权项

1.一种含硅共聚物成膜树脂，由共聚单体在自由基引发剂存在的条件下，溶剂中进行共聚合反应制备而成，其特征在于：所述成膜树脂的分子量为4000～100000，分子量分布为1.4～2.8；所述共聚单体主要为下列质量百分含量的化合物：取代苯乙烯                  40％～90％；含硅丙烯酸酯类偶联剂        0.5％～20％；含酸敏基团单体              5％～60％；所述取代苯乙烯是符合化学通式(I)的至少一种化合物：式中，R₁是H、乙酰基或者丙酰基；m＝1或2；所述含硅丙烯酸酯类偶联剂的化学通式如(II)式所示：式中：R₂是H或CH₃；R₃是碳原子数为1～20的烷基；R₄是碳原子数为1～20的烷基；R₅是OH、碳原子数为1～20的烷基或碳原子数为1～20的烷氧基；n＝1～8；所述含酸敏基团单体是符合化学通式(III)式和(IV)中的至少一种化合物：式中：R₆是H、CH₃或CF₃；R₇是或者其中，R_x是甲基或乙基；式中：R₈是：或者其中R_y是甲基或乙基。