[发明专利]清洗液、清洗方法、清洗系统以及制造微结构的方法有效
| 申请号： | 201010287629.0 | 申请日： | 2010-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN102031203A | 公开（公告）日： | 2011-04-27 |
| 发明（设计）人： | 速水直哉;田家真纪子;黑川祯明;小林信雄;加藤昌明;尾川裕介;土门宏纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝;芝浦机械电子株式会社;氯工程株式会社 |
| 主分类号： | C11D7/08 | 分类号： | C11D7/08;C11D7/18;B08B3/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 根据实施方案，一种清洗液包括氧化物质和氢氟酸，并且显示出酸性。公开了一种清洗方法。该方法包括制备一种包括氧化物质的氧化溶液，通过选自电解硫酸溶液、电解加入硫酸溶液中的氢氟酸以及混合硫酸溶液和过氧化氢水溶液中的一种来制备。该方法包括向待清洗物体的表面提供氧化溶液和氢氟酸。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 方法 系统 以及 制造 微结构 | ||
【主权项】：
一种清洗液，其含有氧化物质和氢氟酸，并显示酸性。
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